【摘要】本發(fā)明一種制備網(wǎng)狀納米陣列鐵磁性薄膜的物理氣相沉積方法，其特征在于，包括如下步驟：1)選擇基底材料，選擇錳金屬和銻金屬為源；2)將基底材料和錳、銻源材料送入生長爐；3)抽真空，控制錳源和銻源的溫度和生長時間；4)退火；5)完成薄膜的
【摘要】 本產(chǎn)品為組合產(chǎn)品。 【專利類型】外觀設(shè)計 【申請人】孫守江 【申請人類型】個人 【申請人地址】102600北京市大興工業(yè)開發(fā)區(qū)B區(qū)天水街12號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】大興區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630148189.5 【申請日】2006-11-08 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3681422D 【公開公告日】2007-08-22 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3681422D 【授權(quán)公告日】2007-08-22 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】孫守江 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】孫守江 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市大興工業(yè)開發(fā)區(qū)B區(qū)天水街12號
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