【摘要】一種背光模塊，包括底座、分流電路板、電路板以及數個燈管。分流電路板及電路板設置在底座上，且分流電路板的數個連接件與電路板的數個連接件相互對應。數個燈管耦接在分流電路板及電路板之間，且各燈管的二端分別卡合在分流電路板中對應的連接件及電
【摘要】 一種非晶硅激光結晶成多晶硅用之光刻掩膜，此光刻掩膜包括透明基板，其包括大小相等的第一區塊、第二區塊與第三區塊。第二區塊是位于第一區塊與第三區塊之間，其中第一區塊包括多個第一透光區與多個第一遮蔽區，第一遮蔽區位于第一透光區之間。第二區塊包括多個第二透光區與多個第二遮蔽區，其中第二遮蔽區是位于第二透光區之間，且第二遮蔽區與第一透光區相對，且第二透光區與第一遮蔽區相對。第三區塊包括多個第三透光區與多個第三遮蔽區，其中第三透光區是設置于相對于第一透光區之中心處以及相對于第二透光區之中心處，且第三遮蔽區是位于第三透光區之間。 【專利類型】發明申請 【申請人】財團法人工業技術研究院 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】臺灣省新竹縣竹東鎮中興路四段195號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610057881.6 【申請日】2006-03-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101030032A 【公開公告日】2007-09-05 【公開公告年份】2007 【發明人】朱芳村; 陳昱丞 【主權項內容】1.一種光刻掩膜，適用于非晶硅激光結晶成多晶硅之工藝，其特征是 上述光刻掩膜包括： 透明基板，包括大小相等的第一區塊、第二區塊與第三區塊，其中上 述第二區塊是位于上述第一區塊與上述第三區塊之間： 上述第一區塊包括多個第一透光區與多個第一遮蔽區，上述多個第一 遮蔽區位于上述多個第一透光區之間； 上述第二區塊包括多個第二透光區與多個第二遮蔽區，其中上述多個 第二遮蔽區是位于上述多個第二透光區之間，且上述多個第二遮蔽區與上 述第一透光區相對，且上述多個第二透光區之位置與第一遮蔽區相對；以 及 上述第三區塊包括多個第三透光區與多個第三遮蔽區，其中上述多個 第三透光區是設置于相對于上述多個第一透光區之中心處以及相對于上 述第二透光區之中心處，且上述多個第三遮蔽區是位于上述多個第三透光 區之間。 【當前權利人】財團法人工業技術研究院 【當前專利權人地址】臺灣省新竹縣竹東鎮中興路四段195號
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