【摘要】省略仰視圖?！緦＠愋汀客庥^設計【申請人】張國斌【申請人類型】個人【申請人地址】101309北京市順義區楊鎮沙嶺段85號【申請人地區】中國【申請人城市】北京市【申請人區縣】順義區【申請號】CN200630120241.6【申請日】2
【摘要】 一種批量化制備雙面高溫超導薄膜裝置，其特點是：將多個基片均勻排布在圓盤形的樣品臺上，由主轉動軸帶動旋轉，在加熱真空腔體內旋轉加熱，對靶一次性濺射制備大面積雙面高溫超導薄膜。在加熱真空腔體上下兩面對稱開有濺射口，上下濺射靶對稱排布。真空室上下兩面還對稱放置金屬電極靶材。加熱腔體與輔轉動軸連接，可以旋轉濺射口的位置至金屬靶材濺射位置，從而實現原位鍍覆電極薄膜。主轉動軸由無極變速電極帶動，可控制旋轉速率；加熱腔體外壁及濺射靶體周圍留有進氣口，保證濺射區域及退火時腔體內氣壓均勻。利用本裝置一次性可批量制備16片φ2英寸、12片φ3英寸的高性能雙面高溫超導薄膜，并可根據實際需要增大樣品尺寸和增加樣品數目。 【專利類型】實用新型 【申請人】北京有色金屬研究總院 【申請人類型】企業 【申請人地址】100088北京市新街口外大街2號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】西城區 【申請號】CN200620119334.1 【申請日】2006-08-28 【申請年份】2006 【公開公告號】CN200943101Y 【公開公告日】2007-09-05 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN200943101Y 【授權公告日】2007-09-05 【授權公告年份】2007.0 【發明人】古宏偉; 李弢; 王霈文; 楊堅 【主權項內容】1、一種批量化制備雙面高溫超導薄膜裝置，其特征在于，它包括有：一 個真空腔體(5)，呈圓筒形，在該真空腔體的頂蓋(4)內和底板上(6)，對稱排 布大尺寸平面或中空圓柱型高溫超導材料靶材(1)，以及用于原位濺射電極的金 屬靶材(2)； 在真空腔體(5)內中間設置有圓盤型加熱轉動裝置，該圓盤型加熱轉動裝置 是由圓盤型轉動裝置和圓盤加熱裝置構成； 所述的圓盤加熱裝置采用上下對稱平面式加熱，圓盤加熱裝置包括上加熱 盤(3)和下加熱盤(7)，該下加熱盤(7)固定在支撐底座(8)上，該上加熱盤(3)連 接固定在下加熱盤(7)上，在上、下加熱盤面上分別設有對準靶材的濺射口 (18、19)； 所述的圓盤轉動裝置是由圓盤樣品臺(11)和轉動裝置構成，轉動裝置包括 主轉動軸(9)、輔轉動軸(10)，主轉動軸連接圓盤樣品臺(11)，帶動樣品臺在加 熱真空腔體(5)內進行旋轉加熱，輔轉動軸(10)連接下加熱盤(7)。 【當前權利人】北京有色金屬研究總院 【當前專利權人地址】北京市新街口外大街2號 【被引證次數】TRUE 【家族被引證次數】TRUE
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