【摘要】本發(fā)明公開了一種聚焦離子束修改集成電路的 方法，包括定位步驟、挖洞步驟、沉積步驟和將集成電路的地 線引腳接地的步驟。在定位步驟中，定位地線通孔和電路線通 孔的位置；在挖洞步驟和沉積步驟中，在挖地線通孔前，在集 成電路的頂層上地線通孔
【摘要】 本實用新型公開了一種碳素陽極殘極噴丸自動擺動機構，其結構為：電機(1)與搖臂擺動臂(2)連接，搖臂擺動臂(2)通過軸承(3)與搖臂支架(4)連接，搖臂支架(4)與連接支架(8)連接，在連接支架(8)上有支架(6)，支架(6)與擺動支架(7)連接，噴槍(5)、擺動氣缸(9)分別與支架(6)和擺動支架(7)連接。其中，噴槍(5)通過耳板(10)與支架(6)連接、通過固定銷(11)與偏心輪(12)連接，偏心輪(12)與擺動支架(7)連接。本實用新型能夠?qū)崿F(xiàn)噴槍的前后移動，并使噴槍在一定范圍內(nèi)實現(xiàn)擺動，增大噴射范圍，保證殘極在長度方向、寬度方向及其每個側(cè)面都能被均勻地噴射到，清理效果好。 【專利類型】實用新型 【申請人】中國鋁業(yè)股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】100814北京市復興路乙12號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200620109500.X 【申請日】2006-07-07 【申請年份】2006 【公開公告號】CN200995360Y 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN200995360Y 【授權公告日】2007-12-26 【授權公告年份】2007.0 【IPC分類號】B24C3/00 【發(fā)明人】吳安靜; 張衡; 趙偉榮; 張懷成; 路增進; 張暉; 崔前海; 吳清藝; 王力; 代建平; 朱明軍; 門三泉; 姚起飛 【主權項內(nèi)容】1、一種殘極噴丸自動擺動機構，它包括電機(1)，其特征在于：電機(1) 與搖臂擺動臂(2)連接，搖臂擺動臂(2)通過軸承(3)與搖臂支架(4)連 接，搖臂支架(4)與連接支架(8)連接，在連接支架(8)上有支架(6)，支 架(6)與擺動支架(7)連接，噴槍(5)、擺動氣缸(9)分別與支架(6)和 擺動支架(7)連接。 【當前權利人】中國鋁業(yè)股份有限公司 【當前專利權人地址】北京市復興路乙12號 【專利權人類型】其他股份有限公司(上市) 【統(tǒng)一社會信用代碼】911100007109288314 【被引證次數(shù)】2 【被他引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】2
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