【摘要】本實用新型公開了一種用于對人體腹部實質(zhì)臟器實施包扎的繃帶，它使用人體可吸收材料，用編織或注塑方式制作，繃帶本體為網(wǎng)狀，網(wǎng)格為棱形或矩形，繃帶寬度為1～5cm，繃帶長度根據(jù)使用需要和包裝、運輸條件自由選取。用其可迅速、方便地包扎受損臟
【摘要】 本發(fā)明公開了一種InP HBT自對準發(fā)射極的制作方法，包括：A.在InP HBT外延層結(jié)構(gòu)表面涂敷負性光刻膠，對涂敷的負性光刻膠進行曝光、反轉(zhuǎn)、顯影處理，形成發(fā)射極窗口圖形；B.在InP HBT外延層結(jié)構(gòu)表面蒸發(fā)/濺射發(fā)射極材料；C.將負性光刻膠及其上方沉積的發(fā)射極材料從InPHBT外延層結(jié)構(gòu)表面剝離，形成發(fā)射極；D.以形成的發(fā)射極為掩模，腐蝕InP HBT外延層結(jié)構(gòu)的蓋帽層和發(fā)射極層，形成發(fā)射極臺面；E.在InPHBT外延層結(jié)構(gòu)表面涂敷正性光刻膠，對涂敷的正性光刻膠進行曝光、顯影處理，形成基極窗口圖形；F.在InP HBT外延層結(jié)構(gòu)表面蒸發(fā)/濺射一層金屬電極材料；G.將正性光刻膠及其上方沉積的金屬電極材料從InPHBT外延層結(jié)構(gòu)表面剝離。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學(xué)院微電子研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100029北京市朝陽區(qū)北土城西路3號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】朝陽區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610089346.9 【申請日】2006-06-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101093803A 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】H01L21/331; H01L21/28; H01L21/02 【發(fā)明人】于進勇; 劉新宇; 夏洋 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種磷化銦異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管自對準發(fā)射極的制作方法，其特 征在于，該方法包括： A、在磷化銦異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管InP？HBT外延層結(jié)構(gòu)表面涂敷負性 光刻膠，對涂敷的負性光刻膠進行曝光、反轉(zhuǎn)、顯影處理，形成發(fā)射極窗 口圖形； B、在形成發(fā)射極窗口圖形的InP？HBT外延層結(jié)構(gòu)表面蒸發(fā)/濺射發(fā)射 極材料； C、將負性光刻膠及其上方沉積的發(fā)射極材料從InP？HBT外延層結(jié)構(gòu) 表面剝離，形成發(fā)射極； D、以形成的發(fā)射極為掩模，腐蝕InP？HBT外延層結(jié)構(gòu)的蓋帽層和發(fā) 射極層，形成發(fā)射極臺面； E、在形成發(fā)射極臺面的InP？HBT外延層結(jié)構(gòu)表面涂敷正性光刻膠， 對涂敷的正性光刻膠進行曝光、顯影處理，形成基極窗口圖形； F、在形成基極窗口圖形的InP？HBT外延層結(jié)構(gòu)表面蒸發(fā)/濺射一層金 屬電極材料； G、將正性光刻膠及其上方沉積的金屬電極材料從InP？HBT外延層結(jié) 構(gòu)表面剝離，形成發(fā)射極和基極自對準的InP？HBT。 【當(dāng)前權(quán)利人】中國科學(xué)院微電子研究所 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】北京市朝陽區(qū)北土城西路3號 【統(tǒng)一社會信用代碼】12100000400834434U 【引證次數(shù)】1.0 【被引證次數(shù)】8 【他引次數(shù)】1.0 【被自引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】6.0 【家族引證次數(shù)】1.0 【家族被引證次數(shù)】8
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