【摘要】一種雙面拋光機，包括：內(nèi)齒圈和外齒圈，所述內(nèi)齒圈設置于外齒圈內(nèi)中心位置處；上拋光盤和下拋光盤，所述上拋光盤和下拋光盤呈圓環(huán)形，環(huán)繞內(nèi)齒圈而設置在內(nèi)齒圈和外齒圈之間；以及至少一個單面拋光用晶片固定盤，貼附多個被加工的晶片；其特征在于，
【摘要】 本發(fā)明涉及自動控制領域，具體涉及半導體刻蝕 工藝中的刻蝕機集群控制器。本發(fā)明提出一種刻蝕機集群控制 器，包括將數(shù)據(jù)輸入到控制器中的輸入設備、存儲數(shù)據(jù)的存儲 設備、顯示監(jiān)控狀態(tài)的輸出設備、執(zhí)行控制信息的CPU、以及 用于與刻蝕機相連接的傳輸設備，其中還包括工藝模塊，該模 塊根據(jù)模塊中存儲的工藝流程所需的條件，對刻蝕機輸出控制 信息。采用本發(fā)明，可以實現(xiàn)對半導體刻蝕機的流程工藝的編 輯、保存，以及載入現(xiàn)有的流程工藝條件等功能；還具有安全 性管理、輸入/輸出的定制、日志管理、狀態(tài)燈塔顯示、工藝模 塊和通訊模塊的參數(shù)設置等功能。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司; 清華大學 【申請人類型】企業(yè),學校 【申請人地址】100016北京市朝陽區(qū)酒仙橋東路1號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】朝陽區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610011922.8 【申請日】2006-05-17 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1959569A 【公開公告日】2007-05-09 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN100437398C 【授權(quán)公告日】2008-11-26 【授權(quán)公告年份】2008.0 【IPC分類號】G05B19/02 【發(fā)明人】徐華; 賈培發(fā); 曹亦明; 趙雁南; 王家廞 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種刻蝕機集群控制器，包括將數(shù)據(jù)輸入到控制器中的輸入 設備、存儲數(shù)據(jù)的存儲設備、顯示監(jiān)控狀態(tài)的輸出設備、執(zhí)行控制信 息的CPU、以及用于與刻蝕機相連接的傳輸設備，其特征在于，該 刻蝕機集群控制器還包括： 工藝模塊，用于根據(jù)存儲的工藝流程所需的條件，對完成刻蝕工 藝的相關參數(shù)進行編輯、保存和載入，并根據(jù)所述參數(shù)向刻蝕機輸入 控制信息，控制刻蝕機對晶片進行刻蝕操作。。： 【當前權(quán)利人】北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司; 清華大學 【當前專利權(quán)人地址】北京市大興區(qū)經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)文昌大道8號; 北京市海淀區(qū)清華園 【專利權(quán)人類型】有限責任公司; 公立 【統(tǒng)一社會信用代碼】91110302801786752A; 12100000400000624D 【被引證次數(shù)】13 【被自引次數(shù)】3.0 【被他引次數(shù)】10.0 【家族引證次數(shù)】3.0 【家族被引證次數(shù)】13
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