【摘要】一種鋁電解槽用陰極炭塊組的生產方法，涉及一 種用于電解鋁生產過程中構成鋁電解槽爐底的陰極炭塊組的 制作方法。其特征在于其制作過程是在振動成型時模具中，將 陰極鋼棒預置于糊料中，振動成型制得嵌有陰極鋼棒的生塊， 再進行焙燒和機械加工而
【摘要】 一種雙面拋光機，包括：內齒圈和外齒圈，所述內齒圈設置于外齒圈內中心位置處；上拋光盤和下拋光盤，所述上拋光盤和下拋光盤呈圓環形，環繞內齒圈而設置在內齒圈和外齒圈之間；以及至少一個單面拋光用晶片固定盤，貼附多個被加工的晶片；其特征在于，所述雙面拋光機還包括至少一個活動齒圈，所述至少一個活動齒圈設置在內齒圈與外齒圈之間并且在上拋光盤與下拋光盤之間，所述至少一個活動齒圈與內齒圈、外齒圈嚙合；所述至少一個活動齒圈上設有貫通孔，晶片固定盤設置在所述貫通孔中。 ： 【專利類型】發明申請 【申請人】中國科學院半導體研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100083北京市海淀區清華東路甲35號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610057412.4 【申請日】2006-03-13 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101036976A 【公開公告日】2007-09-19 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】B24B29/00 【發明人】朱蓉輝; 趙冀; 惠峰; 卜俊鵬; 鄭紅軍 【主權項內容】1.一種雙面拋光機，包括： 內齒圈和外齒圈，所述內齒圈設置于外齒圈內中心位置 處； 上拋光盤和下拋光盤，所述上拋光盤和下拋光盤呈圓環 形，環繞內齒圈而設置在內齒圈和外齒圈之間；以及 至少一個單面拋光用晶片固定盤，貼附多個被加工的晶 片； 其特征在于，所述雙面拋光機還包括至少一個活動齒圈， 所述至少一個活動齒圈設置在內齒圈與外齒圈之間并且在上 拋光盤與下拋光盤之間，所述至少一個活動齒圈與內齒圈、外 齒圈嚙合；所述至少一個活動齒圈上設有貫通孔，晶片固定盤 設置在所述貫通孔中。 【當前權利人】中國科學院半導體研究所 【當前專利權人地址】北京市海淀區清華東路甲35號 【統一社會信用代碼】12100000400012385U 【被引證次數】9 【被自引次數】1.0 【被他引次數】8.0 【家族被引證次數】9
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