【摘要】本發明涉及一種具有可控磁場的脈沖激光沉積系統，該系統為在傳統PLD設備基礎上加一套外加強磁場裝置，包括：所述的真空室設置成側壁有一凸出腔，在該凸出腔內安裝所述的靶組件和所述的基片加熱器；所述的石英玻璃窗口設置在凸出腔上方；還包括一套
【專利類型】外觀設計 【申請人】北京華旗資訊數碼科技有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】100080北京市海淀區北四環西路58號理想國際大廈11層 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200630024440.7 【申請日】2006-04-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3649445D 【公開公告日】2007-05-23 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3649445D 【授權公告日】2007-05-23 【授權公告年份】2007.0 【發明人】張東; 張冰 【主權項內容】無 【當前權利人】北京華旗資訊數碼科技有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區北四環西路58號理想國際大廈11層
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