【摘要】本發(fā)明涉及一種汽車(chē)?yán)淦饎?dòng)排放吸附裝置及方法。該裝置并聯(lián)在汽車(chē)內(nèi)燃機(jī)排氣管(2)上，活性炭塊用薄鋼板包覆組成活性炭吸附器(8)，電控單元(1)通過(guò)獲取的發(fā)動(dòng)機(jī)冷卻水溫信號(hào)(16)和發(fā)動(dòng)機(jī)轉(zhuǎn)速信號(hào)(15)，基于相應(yīng)的控制策略，通過(guò)打開(kāi)或
【摘要】 本發(fā)明公開(kāi)一種薄膜晶體管液晶顯示器陣列基板的制造方法。包括以下步驟：首先，在襯底上形成第一層金屬薄膜；用第一塊掩膜版定義第一層金屬薄膜的圖案，形成柵極掃描線和柵電極。接下來(lái)，在柵極金屬上面依次沉積第一層絕緣層、有源層、歐姆接觸層和第二層金屬薄膜；使用第二塊掩膜版，即第一塊灰色調(diào)掩膜版先定義第二層金屬薄膜的圖案，形成源漏電極和數(shù)據(jù)掃描線；其次形成有源層孤島和薄膜晶體管器件導(dǎo)電溝道。在第二層金屬上面形成第二層絕緣薄膜。最后，使用第三塊掩膜版，即第二塊灰色調(diào)掩膜版定義第二層絕緣薄膜，形成第二層絕緣薄膜的圖案，使得部分第二層金屬和部分第二層絕緣層暴露出來(lái)，而其它部分則被光敏感材料保護(hù)。在此之上沉積一層透明導(dǎo)電薄膜，然后去除光敏感材料和其上附著的 導(dǎo)電薄膜，最后形成導(dǎo)電薄膜的圖案。 【專(zhuān)利類(lèi)型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司 【申請(qǐng)人類(lèi)型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】100016北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋路10號(hào) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】北京市 【申請(qǐng)人區(qū)縣】朝陽(yáng)區(qū) 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610057242.X 【申請(qǐng)日】2006-03-09 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN101034262A 【公開(kāi)公告日】2007-09-12 【公開(kāi)公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100517075C 【授權(quán)公告日】2009-07-22 【授權(quán)公告年份】2009.0 【發(fā)明人】龍春平 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種制作薄膜晶體管陣列基板的方法，其特征在于： 首先，提供一個(gè)絕緣透明襯底；在絕緣襯底上依次形成第一層金屬薄膜 和一層光刻膠；使用第一塊掩膜版定義光刻膠的圖案，并刻蝕形成第一層金 屬薄膜的圖案，即柵電極和柵極掃描線； 然后，在基板上沉積一層絕緣層薄膜、至少一層半導(dǎo)體層薄膜和第二層 金屬薄膜；在金屬薄膜上涂布一層光刻膠；使用第二塊掩膜版，即第一塊灰 色調(diào)掩膜版，經(jīng)過(guò)曝光顯影和刻蝕形成薄膜晶體管硅島，利用光刻膠灰化工 藝和刻蝕，形成源漏電極和薄膜晶體管開(kāi)關(guān)器件的溝道； 最后，在基板上沉積一層鈍化層薄膜；在鈍化層薄膜上涂布一層光刻膠； 使用第三塊掩膜版，即第二塊灰色調(diào)掩膜版，經(jīng)過(guò)曝光顯影后得到無(wú)光刻膠 的區(qū)域，保留部分光刻膠的區(qū)域和保留全部光刻膠的區(qū)域；刻蝕無(wú)光刻膠的 區(qū)域得到鈍化層過(guò)孔；完成刻蝕后，對(duì)光刻膠進(jìn)行灰化工藝，全部去除保留 部分光刻膠的區(qū)域的光刻膠，去除一部分厚度的保留全部光刻膠的區(qū)域的光 刻膠；在陣列基板上沉積一層透明像素電極薄膜，并結(jié)合離地剝離工藝，剝 離尚存的光刻膠，其上沉積的透明導(dǎo)電薄膜也隨之去除，殘留的透明導(dǎo)電薄 膜就形成了透明像素電極圖案并通過(guò)鈍化層過(guò)孔與薄膜晶體管漏電極形成電 連接。 【當(dāng)前權(quán)利人】北京京東方光電科技有限公司; 京東方科技集團(tuán)股份有限公司 【當(dāng)前專(zhuān)利權(quán)人地址】北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)西環(huán)中路8號(hào); 北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋路10號(hào) 【專(zhuān)利權(quán)人類(lèi)型】其他股份有限公司(上市) 【統(tǒng)一社會(huì)信用代碼】911100001011016602 【被引證次數(shù)】TRUE 【家族被引證次數(shù)】TRUE
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