【專利類型】外觀設計【申請人】統音電子股份有限公司【申請人類型】企業【申請人地址】臺灣省臺北縣中和市中正路738號10樓之8【申請人地區】中國【申請人城市】臺灣省【申請號】CN200630123122.6【申請日】2006-07-14【申請
【摘要】 本發明公開了一種以復合式潔凈基板的表面污染物的方法，其包含提供一基板步驟、提供一等離子供應單元步驟、提供一二氧化碳雪花供應單元步驟、進行等離子噴洗基板操作步驟及進行等離子及二氧化碳雪花噴洗基板操作步驟，通過本發明的實施運用，不需耗費大量資源及能源，尤其是水資源，且更不會造成環保問題，并能有效清除各種有機污染物與微粒，借以提升基板表面的潔凈效果。 ： 【專利類型】發明申請 【申請人】財團法人金屬工業研究發展中心 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】中國臺灣高雄市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610083295.9 【申請日】2006-05-31 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101081395A 【公開公告日】2007-12-05 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101081395B 【授權公告日】2010-12-22 【授權公告年份】2010.0 【IPC分類號】B08B7/00; B08B7/04; B08B5/04; H05F3/00 【發明人】郭子禎; 楊勝仲 【主權項內容】1.一種以復合式潔凈基板的表面污染物的方法，其特征在于，包含以下步 驟： 提供一基板，該基板表面具有污染物； 提供一等離子供應單元，該等離子供應單元位于該基板上方； 提供一二氧化碳雪花供應單元，該二氧化碳雪花供應單元位于該基板上方 且置于該等離子供應單元的一側； 進行等離子噴洗基板操作，該基板與該等離子供應單元相對移動以進行等 離子噴洗基板；以及 進行等離子及二氧化碳雪花噴洗基板操作，該基板與該等離子供應單元及 該二氧化碳雪花供應單元相對移動以進行等離子及二氧化碳雪花噴洗基板。 【當前權利人】財團法人金屬工業研究發展中心 【當前專利權人地址】中國臺灣高雄市 【被引證次數】6 【被他引次數】6.0 【家族被引證次數】6
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