【摘要】一種棒球打擊練習器，其設有一固定座，固定座設有一垂直設置的立桿部，于立桿部結合一朝外伸設且水平設置的橫桿，于橫桿外端以可于垂直面旋轉的形態樞接一樞轉桿件，于樞轉桿件外端結合一鋼索，于鋼索末端設有一頭部，于鋼索末端部套設一球體，于球體
【摘要】 本發明是有關于一種用于半導體制程的光微影 方法，包含提供一基材當作一晶圓，以及提供一光罩來曝光此 晶圓。此晶圓是使用一種組合高角度照明方法及焦點漂移曝光 方式來進行曝光。利用這種整合高角度照明方法和焦點漂移曝 光方法的光微影制程，可以降低鄰近效應，并增加焦點深度。 【專利類型】發明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610149997.2 【申請日】2006-10-25 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1955847A 【公開公告日】2007-05-02 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100514192C 【授權公告日】2009-07-15 【授權公告年份】2009.0 【發明人】陳桂順; 林進祥; 高蔡勝; 陳俊光; 陸曉慈; 梁輔杰 【主權項內容】1、一種半導體制造方法，其特征在于該制造方法包含： 提供一基材； 覆蓋一光阻層于該基材之上；以及 利用高角度照明方法以及焦點漂移曝光方法的組合曝光該基材。 【當前權利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市新竹科學工業園區力行六路8號 【被引證次數】1 【家族被引證次數】5
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