【摘要】本實用新型提供一種大型UV噴墨打印機的打印模塊，其包括一基座、一噴墨組件及至少一UV光投射裝置，該噴墨組件是固定在基座上，該噴墨組件包括復數個噴墨頭，供噴墨打印于被打印物體表面，該UV光投射裝置的底部設有開口，供UV光向下照射被打印
【摘要】 本發明是關于一種降低元件效能不匹配的方法 及半導體電路，用以降低因溝槽隔離導致的應力所引起元件不 匹配。包括至少一延伸主動區是形成于基底上，其中上述主動 區從至少一端延伸，且至少一運算元件設置于至少一主動區 上，其中上述延伸主動區具有至少兩相鄰運算元件柵極之間的 兩倍長度。本發明所述的降低元件效能不匹配的方法及半導體 電路，在高頻模擬及數字電路中，可消除淺溝槽隔離邊界附近 的“溝槽隔離導致的應力效應”，進而消除元件的不匹配并增 進效能。 【專利類型】發明申請 【申請人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省新竹科學工業園區新竹市力行六路八號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610103903.8 【申請日】2006-07-26 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1905158A 【公開公告日】2007-01-31 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100394581C 【授權公告日】2008-06-11 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】H01L21/82; H01L27/02; H01L21/70 【發明人】莊建祥; 魯定中 【主權項內容】該數據由<>整理 1.一種降低元件效能不匹配的方法，其特征在于，該降低元 件效能不匹配的方法包括： 提供一基底； 形成至少一延伸主動區于上述基底上，其中上述延伸主動區 從至少一主動區的至少一端延伸開來；以及 設置至少一運算元件于至少一上述主動區上， 其中上述延伸主動區具有一長度，而上述長度至少兩倍于兩 相鄰的上述運算元件的柵極距離。 【當前權利人】臺灣積體電路制造股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省新竹科學工業園區新竹市力行六路八號 【被引證次數】6 【被他引次數】6.0 【家族引證次數】13.0 【家族被引證次數】28
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