【摘要】本發(fā)明公開了一種獲取新詞的方法，包括以下步 驟：在用戶輸入過程中，獲取用戶選擇的字詞；比較用戶所選 字詞與現(xiàn)有字詞，根據(jù)比對結(jié)果獲取用戶個性字詞；收集各個 用戶的個性字詞；根據(jù)所述個性字詞獲得新詞。以及一種詞庫 生成方法，包括：收集
【摘要】 一種消色差浸沒干涉成像光刻系統(tǒng)，包括激光器 (1)、擴束準直空間濾波裝置(2)、偏振控制裝置(3)、定時快門(4)、 分束光柵(5)、0級衍射光控制器件(10)，復(fù)合光柵(7)、浸沒液 體層、抗蝕劑硅片(11)及硅片工作臺(12)。分束光柵(5)和復(fù)合 光柵(7)間為浸沒液體層(6)，復(fù)合光柵(7)與硅片工作臺(12)間為 浸沒液體層(8)；分束光柵(5)和復(fù)合光柵(7)的種類、材料、柵 距、結(jié)構(gòu)以及厚度均相同，浸沒液體層(6、8)為同種液體且浸 沒高度相等。本發(fā)明采用雙液體層來保持兩光臂光程相等，得 到對稱結(jié)構(gòu)實現(xiàn)消色差干涉成像。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學院電工研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100080北京市海淀區(qū)中關(guān)村北二條6號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610114360.X 【申請日】2006-11-08 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1945439A 【公開公告日】2007-04-11 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G03F7/20; H01L21/027; H01L21/02 【發(fā)明人】周遠; 李艷秋; 張強 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種消色差浸沒干涉成像光刻系統(tǒng)，包括激光器(1)、擴束準直空間濾波裝置(2)、 偏振控制裝置(3)、定時快門(4)、分束光柵(5)、復(fù)合光柵(7)、浸沒液體層、抗蝕劑硅片 (11)及硅片工作臺(12)，其特征在于：系統(tǒng)各器件由上至下的空間位置順序為分束光柵 (5)、浸沒液體層(6)、0級衍射光控制器件(10)、復(fù)合光柵(7)、浸沒液體層(8)、 涂有光敏抗蝕劑的硅片(11)、電控精密硅片工作臺(12)；防漏擋板(9)在復(fù)合光柵(7) 和硅片工作臺(12)四周邊緣，電控精密調(diào)整機構(gòu)在系統(tǒng)側(cè)面，通過懸臂與分束光柵(5) 和復(fù)合光柵(7)相連；分束光柵(5)和復(fù)合光柵(7)間的間隙為浸沒液體層(6)， 復(fù)合光柵(7)與硅片工作臺(12)間的間隙為浸沒液體層(8)；表面涂有光敏抗蝕劑 的硅片(11)通過真空泵(14)和與之相連的密封氣管(13)緊密吸附固定在電控精密 硅片工作臺(12)上。。 【當前權(quán)利人】中國科學院電工研究所 【當前專利權(quán)人地址】北京市海淀區(qū)中關(guān)村北二條6號 【統(tǒng)一社會信用代碼】121000004000124147 【被引證次數(shù)】12 【被他引次數(shù)】12.0 【家族被引證次數(shù)】12
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