【摘要】 。本實用新型公開了一種適用于網絡化圖像視頻監控系統的二自由度云臺，由基座、驅動組件和圖像采集組件組成，基座與驅動組件通過第二舵機的輸出軸與舵盤A過盈配合連接，驅動組件與圖像采集組件通過第一舵機的輸出軸與舵盤B過盈配合連接。本實用新
【摘要】 本發明涉及一種場發射陰極裝置的制造方法。該場發射陰極裝置的制造方法包括以下步驟：提供一個襯底；在襯底上依次形成一層柵極絕緣介質層，一層柵極金屬層和一層光刻膠層；微影光刻膠層形成一預定之圖案；分別蝕刻柵極金屬層和柵極絕緣介質層以形成柵極，柵極絕緣介質間隔體和柵極孔；對光刻膠層加熱并加壓使其面積增大；利用面積增大的光刻膠層作為掩模，在襯底上蒸鍍金屬催化劑層；在金屬催化劑層上生長出碳納米管陣列以形成場發射源，該場發射源小于柵極孔。 ： 【專利類型】發明申請 【申請人】清華大學; 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司 【申請人類型】企業,學校 【申請人地址】100084北京市海淀區清華大學－富士康納米科技研究中心310室 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610061097.2 【申請日】2006-06-09 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101086940A 【公開公告日】2007-12-12 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101086940B 【授權公告日】2011-06-22 【授權公告年份】2011.0 【IPC分類號】H01J9/02; C01B31/02 【發明人】鄭直; 范守善 【主權項內容】1.一種場發射陰極裝置的制造方法，其包括以下步驟：提供一 個襯底；在襯底上依次形成一層柵極絕緣介質層，一層柵極 金屬層和一層光刻膠層；微影光刻膠層形成一預定之圖案； 分別蝕刻柵極金屬層和柵極絕緣介質層以形成柵極，柵極絕 緣介質間隔體和柵極孔；對光刻膠層加熱并加壓使其面積增 大；利用面積增大的光刻膠層作為掩模，在襯底上蒸鍍金屬 催化劑層；在金屬催化劑層上生長出碳納米管陣列以形成場 發射源，該場發射源小于柵極孔。。 【當前權利人】清華大學; 鴻富錦精密工業(深圳)有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區清華大學-富士康納米科技研究中心310室; 廣東省深圳市寶安區龍華鎮油松第十工業區東環二路2號 【專利權人類型】公立; 有限責任公司(外國法人獨資) 【統一社會信用代碼】12100000400000624D; 914403007084307436 【被引證次數】2 【被他引次數】2.0 【家族引證次數】13.0 【家族被引證次數】48
未經允許不得轉載：http://m.mhvdw.cn/1776223299.html
喜歡就贊一下
