【摘要】本發明公開了一種制備多羥基環狀硝酮的方法。本發明所提供的制備式I結構的多羥基環狀硝酮的方法，包括如下步驟：1)將式II結構的半縮醛與O－甲基羥胺鹽酸鹽在堿性條件下反應，得到式III結構的甲基肟醚；2)將式III結構的甲基肟醚與甲烷磺
【摘要】 本發明涉及低碳鋼上電沉積Ni－W－P非晶態薄膜的方法，屬于電鍍應用領域。本方法首先對低碳鋼基板進行前期處理，然后用低碳鋼基板作為陰極，用鎳基板作為陽極，將所述的陰極和陽極分別置于電鍍溶液中，該陰極和陽極在電鍍溶液中進行氧化還原反應，在低碳鋼表面直接電鍍上一層Ni－W－P膜。采用本發明的工藝制備的Ni－W－P膜顆粒均勻細小，表面光亮致密，與基板結合力強，具有優異的抗腐蝕 性能。另外該方法溶液配制方便，生產步驟簡單，成本低廉，是各種機件沉積裝飾涂層和功能涂層的理想技術方案。 【專利類型】發明申請 【申請人】清華大學 【申請人類型】學校 【申請人地址】100084北京市100084信箱82分箱清華大學專利辦公室 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610169821.3 【申請日】2006-12-29 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101008096A 【公開公告日】2007-08-01 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】C25D3/56 【發明人】楊志剛; 劉殿龍 【主權項內容】1、在低碳鋼上電沉積Ni-W-P非晶態薄膜的方法，其特征在于，所述方法首先對低碳鋼基 板進行前期處理，然后用低碳鋼基板作為陰極，用鎳板作為陽極，將所述的陰極和陽極分別 置于電鍍溶液中，該陰極和陽極在電鍍溶液中進行氧化還原反應，在低碳鋼表面直接電沉積 上一層Ni-W-P薄膜。 【當前權利人】清華大學 【當前專利權人地址】北京市100084信箱82分箱清華大學專利辦公室 【專利權人類型】公立 【統一社會信用代碼】12100000400000624D 【被引證次數】11 【被他引次數】11.0 【家族被引證次數】11
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