【摘要】本發明提供一種等離子淋浴器，能夠產生中和用電子，用于在離子注入工藝中，在被注入晶片上產生的靜電積累進行中和，提高離子注入工藝的性能，消除靜電積累對注入晶片的危害。【專利類型】發明申請【申請人】北京中科信電子裝備有限公司【申請人類型】
【摘要】 本實用新型涉及一種霧化球形鎂粉的生產設備；該設備包括與真空系統相連接真空冶煉爐，和與真空冶煉爐、氣壓平衡罐和霧化室的水冷裝置連接的循環水冷卻系統、一安裝在霧化室內的限制式分布器和帶塞桿的保溫坩堝；限制式分布器為一金屬本體中心開有通孔，本體側壁徑向開有進氣口，在進氣口斜下方開一氣道，該氣道的末端延伸至通孔的末端，并且末端與霧化室的出料口相通；霧化室的出料口通過管路依次與離心分級器、旋風分級器、除塵器和離心風機串聯連通；該除塵器的另一根管道與位于氣壓平衡罐內的離心風機連通，氣壓平衡罐通過管線連接氣瓶組，和通過另一根管線與真空系統連接。本設備生產的鎂粉球形度好，振實密度高，產品收得率高。 【專利類型】實用新型 【申請人】林剛; 李濤 【申請人類型】個人 【申請人地址】100089北京市海淀區北洼路甲28號501 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200620122441.X 【申請日】2006-07-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN200951462Y 【公開公告日】2007-09-26 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN200951462Y 【授權公告日】2007-09-26 【授權公告年份】2007.0 【IPC分類號】B22F9/08 【發明人】林剛; 李濤 【主權項內容】1.一種霧化制備球形鎂粉的生產設備，包括一真空冶煉爐(4)，并與真空 系統(24)相連接，霧化室(7)、旋風分級器(12)、除塵器(19)、氣壓平衡罐 (21)、位于所述氣壓平衡罐(21)內的離心風機(20)，和與真空冶煉爐(4)、 氣壓平衡罐(21)和霧化室(7)的水冷裝置連接的循環水冷卻系統(33)；其特 征在于，還包括動態補氣系統、離心分級器(10)、串連于所述氣壓平衡罐(21) 的壓縮機(1)和緩沖罐(2)、一安裝在所述霧化室(7)內的限制式分布器(6) 和安裝有塞桿(25)的保溫坩堝(5)；其中所述限制式分布器(6)包括一金屬 本體(34)，在所述金屬本體(34)中部有一層厚1～10mm耐腐蝕襯里(28)，其 中心開有通孔作為金屬鎂液通道(27)，其金屬鎂液通道(27)的孔徑為2～20mm； 并沿所述分布器本體(34)的側壁徑向開有直徑為3～20mm的進氣口(29)，在 進氣口(29)斜下方開一氣道(30)，與所述進氣口(29)相通，該氣道(30) 與所述金屬鎂液通道(27)的夾角為20～90°，所述氣道(30)的末端延伸至金 屬鎂液通道(27)的末端，該氣道(30)和金屬鎂液通道(27)的末端與所述霧 化室(7)的出料口相通； 其中所述真空冶煉爐(4)出料口通過帶有保溫層的管路(411)插入所述保 溫坩堝(5)內，該保溫坩堝(5)安裝在限制式分布器(6)上，并且保溫坩堝 (5)底部的液孔與限制式分布器(6)的金屬鎂液通道(27)的上端口對準，它 們一起安裝在霧化室(7)內；所述塞桿(25)抵在保溫坩堝(5)的底部液孔上， 塞桿(25)的另一端與一用于提拉塞桿(25)的提升機構連接；所述緩沖罐(2) 的出口通過輸氣管路(201)與所述限制式分布器(6)的進氣口(29)連通；所 述霧化室(7)的出料口通過輸料管路(72)依次與離心分級器(10)的底口連 通，該離心分級器(10)上口再與所述旋風分級器(12)、所述除塵器(19)和 所述離心風機(20)串聯連通，所述霧化室(7)的輸料管路(72)上還設置有 套管換熱器(8)和第一列管換熱器(11)，該霧化室(7)的上口設置一根管道 (71)，該管道(71)通過第二列管換熱器(9)與所述氣壓平衡罐(21)連通， 所述離心分級器(10)的出料口依次連通第一緩沖料罐(13)和第一收集料罐(16)； 該離心分級器(10)的上口通過輸運管(101)與所述旋風分級器(12)的入口 連通，所述旋風分級器(12)的第一出料口依次連通第二緩沖料罐(14)和第二 收集料罐(17)，第二出料口依次連通第三緩沖料罐(15)和第三收集料罐(18)， 該旋風分級器(12)的上出口通過輸料管道(121)與除塵器(19)連通，該除 塵器(19)的另一根管線(122)與位于所述氣壓平衡罐(21)內的離心風機(20) 連通，所述氣壓平衡罐(21)通過帶閥門的輸氣管線(2101)連接到氣瓶組(23)， 和通過另一根輸氣管道(2102)與真空系統(24)連接；所述循環水冷卻系統(33) 的另一路水冷管與壓縮機(1)的水冷裝置連通，還有一管路與真空系統(24) 的水冷裝置連通，并且所述循環水冷卻系統(33)通過管路分別連接至套管換熱 器(8)、第二列管換熱器(9)和第一列管換熱器(11)；所述的動態補氣系統由 氬氣含量監控器，和通過輸氣管(221)與所述氣壓平衡罐(21)連通的氮氣源 (22)組成。 【當前權利人】林剛; 李濤 【當前專利權人地址】北京市海淀區北洼路甲28號501; 【引證次數】2.0 【被引證次數】4 【他引次數】2.0 【被他引次數】4.0 【家族引證次數】2.0 【家族被引證次數】4
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