【摘要】本發明公開了一種圖像質量評測方法，包括以下 步驟：A.模擬外部環境對圖像的影響，對預先選擇的參考圖像 進行破壞；B.利用需要評估的ISP算法，對破壞后的圖像進行 還原處理；C.將還原處理后的圖像與預先選擇的參考圖像進行 比較。本發明
【摘要】 本發明組織芯片陣列蠟塊模具，包括模體和陣列 柵板，陣列柵板上設有若干均勻排布的柱狀柵，模體底面設有 與柱狀柵對應排布的陣列孔，柱狀柵自模體下面穿過陣列孔進 入模體槽內，陣列柵板與陣列孔活動配合，模體上方設有與其 活動配合的包埋盒。模具的另外兩種方案是：模體的槽底向上 設有與其連成一體的柱狀柵；模體槽的中間部位設有陣列孔板 和穿過陣列孔板活動扣置的陣列柵板，陣列柵板下表面設有柱 狀柵，上表面設有手柄，柱狀柵與陣列孔板活動配合。本發明 有益的技術效果是：制作速度快，質量高，簡單易行、一次成 型，同時，有利于增加微陣列的點數，在同一陣列蠟塊上可植 入更多的組織芯，顯著提高了制備效率和質量。 【專利類型】發明申請 【申請人】胡蘋 【申請人類型】個人 【申請人地址】100101北京市朝陽區小營路9號亞運豪庭B4G 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN200610091156.0 【申請日】2006-07-04 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1920558A 【公開公告日】2007-02-28 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN1920558B 【授權公告日】2013-06-05 【授權公告年份】2013.0 【發明人】胡蘋 【主權項內容】1.組織芯片陣列蠟塊模具，包括槽形的模體(1)，其特征在于：還包括一陣列柵板(2)， 所述陣列柵板(2)上設有若干均勻排布的柱狀柵(3)，所述模體(1)底面設有與所述柱狀 柵(3)對應排布的陣列孔(4)，所述柱狀柵(3)自所述模體(1)下面穿過所述陣列孔(4) 進入所述模體(1)槽內，所述陣列柵板(2)與所述陣列孔(4)活動配合，所述模體(1) 上方設有與其活動配合的包埋盒(5)。 【當前權利人】胡蘋 【當前專利權人地址】北京市朝陽區小營路9號亞運豪庭B4G 【被引證次數】TRUE 【家族被引證次數】TRUE
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