【摘要】本發明屬于納米加工領域，提出了一種切斷、削 薄或連接納米材料的方法：在兩個具有良好導電性的納米材料 之間施加一定的電壓，然后讓兩個納米材料接觸，利用它們在 熱導率、比熱、密度及幾何尺寸等因素中存在的差異，使其中 一個納米材料在接觸處
【摘要】 本發明公開了一種圖像質量評測方法，包括以下 步驟：A.模擬外部環境對圖像的影響，對預先選擇的參考圖像 進行破壞；B.利用需要評估的ISP算法，對破壞后的圖像進行 還原處理；C.將還原處理后的圖像與預先選擇的參考圖像進行 比較。本發明還公開了一種圖像質量評測系統，包括：參考圖 像數據庫、環境仿真處理單元、ISP算法單元和質量評估單元。 本發明的技術方案提高了評估的可靠性和評估效率。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京中星微電子有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】100083北京市海淀區學院路35號世寧大廈15層 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610139144.0 【申請日】2006-10-13 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1929625A 【公開公告日】2007-03-14 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100562135C 【授權公告日】2009-11-18 【授權公告年份】2009.0 【發明人】占文靜; 游明琦; 朱立英 【主權項內容】1、一種圖像質量評測方法，其特征在于，包括以下步驟： A、模擬外部環境對圖像的影響，對預先選擇的參考圖像進行破壞； B、利用需要評估的ISP算法，對破壞后的圖像進行還原處理； C、將還原處理后的圖像與預先選擇的參考圖像進行比較，并根據比較 結果得到評估結果。 【當前權利人】北京中星微電子有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區學院路35號世寧大廈15層 【專利權人類型】有限責任公司(外國法人獨資) 【統一社會信用代碼】911101087002349407 【被引證次數】9 【被他引次數】9.0 【家族被引證次數】9
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