【摘要】本發(fā)明公開了一種InP HBT自對準發(fā)射極的制作方法，包括：A.在InP HBT外延層結(jié)構(gòu)表面涂敷負性光刻膠，對涂敷的負性光刻膠進行曝光、反轉(zhuǎn)、顯影處理，形成發(fā)射極窗口圖形；B.在InP HBT外延層結(jié)構(gòu)表面蒸發(fā)濺射發(fā)射極材料；C.
【摘要】 1.本外觀設計的設計要點在于套裝局部有珠邊，套件1為后開氣。 2.省略其他視圖。 微信 【專利類型】外觀設計 【申請人】北京華世綸紡織服裝有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】100021北京市朝陽區(qū)松榆西里11號樓一層 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】朝陽區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630021666.1 【申請日】2006-03-01 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3619619D 【公開公告日】2007-03-14 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3619619D 【授權(quán)公告日】2007-03-14 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】林玉彬 【主權(quán)項內(nèi)容】無 【當前權(quán)利人】北京華世綸紡織服裝有限公司 【當前專利權(quán)人地址】北京市朝陽區(qū)松榆西里11號樓一層 【專利權(quán)人類型】有限責任公司(自然人投資或控股) 【統(tǒng)一社會信用代碼】91110115752177335G
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