【摘要】一種可以修整拋光晶片平整度的拋光頭，其特征在于，包括：一晶片固定盤；一上拋光盤，該上拋光盤的斷面為倒T形；一氣囊，該氣囊固定在上拋光盤的底面，該氣囊可以充氣；一拋光墊，該拋光墊固定在氣囊的底面；欲將晶片拋光時，將氣囊充氣，將晶片固定
【專利類型】外觀設計 【申請人】陳曉維 【申請人類型】個人 【申請人地址】102208北京市昌平區(qū)東小口鎮(zhèn)馬連店村百強家具 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】昌平區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630133280.X 【申請日】2006-06-09 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3636020D 【公開公告日】2007-04-25 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3636020D 【授權公告日】2007-04-25 【授權公告年份】2007.0 【發(fā)明人】陳曉維 【主權項內容】無 【當前權利人】陳曉維 【當前專利權人地址】北京市昌平區(qū)東小口鎮(zhèn)馬連店村百強家具
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