【摘要】本實用新型是一種改進的等離子真空鍍膜裝置，涉及等離子真空鍍膜設備。其特征是鍍膜罐設為水平臥置，沿鍍膜罐體外表面縱向兩側對稱的各設有一組外凸源座和離子發射源，兩側外凸源座均設于鍍膜罐體軸心水平面之上；離子發射源固置于外凸源座，每組離子
【摘要】 后視圖與主視圖相同、右視圖和左視圖相同，省略后視圖和右視圖。 馬 克 數 據 網 【專利類型】外觀設計 【申請人】王海濤 【申請人類型】個人 【申請人地址】650000云南省昆明市北辰小區40幢3單元401室 【申請人地區】中國 【申請人城市】昆明市 【申請號】CN200630021374.8 【申請日】2006-11-15 【申請年份】2006 【公開公告號】CN300695767D 【公開公告日】2007-10-03 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN300695767D 【授權公告日】2007-10-03 【授權公告年份】2007.0 【發明人】王海濤 【主權項內容】無 【當前權利人】王海濤 【當前專利權人地址】云南省昆明市北辰小區40幢3單元401室
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