【摘要】一種屬于光學精密機械技術領域的用于將民用 數碼相機安裝在顯微鏡上的機械接口，由與顯微鏡目鏡筒聯接 的下接口和與數碼相機物鏡筒聯接的上接口構成，下接口和上 接口為通過過渡段聯接成一體的圓筒形結構；在下接口和上接 口的筒壁上加工絲孔用于
【摘要】 一種接觸窗開口的制造方法。首先于基底上形成一層掩模層，再于掩模層中沿兩個方向分別形成多個溝槽。此兩個方向互相交錯。溝槽的深度不大于掩模層的厚度，但于溝槽與溝槽交錯處的掩模層會形成開口，此開口暴露基底。移除開口所暴露的部分基底，以在基底中形成接觸窗開口。在光刻工藝中，由于形成線狀圖案較形成點狀圖案容易控制，因此可精確地掌控接觸窗開口的尺寸。 【專利類型】發明申請 【申請人】力晶半導體股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610005889.8 【申請日】2006-01-19 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101005026A 【公開公告日】2007-07-25 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100470733C 【授權公告日】2009-03-18 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】H01L21/311; H01L21/768; H01L21/02; H01L21/70 【發明人】陳高惇; 蕭立東 【主權項內容】1、一種接觸窗開口的制造方法，包括： 于基底上形成掩模層； 于該掩模層中形成至少一第一溝槽，該第一溝槽的深度不大于該掩模層 的厚度，且該第一溝槽往第一方向延伸； 于該掩模層中形成至少一第二溝槽，該第二溝槽的深度不大于該掩模層 的厚度，該第二溝槽往第二方向延伸，該第二方向與該第一方向交錯，該第 二溝槽與該第一溝槽交錯處的該掩模層中形成有開口，該開口暴露該基底； 以及 移除該開口所暴露的部分該基底。 【當前權利人】力晶半導體股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市 【被引證次數】6 【被他引次數】6.0 【家族引證次數】4.0 【家族被引證次數】6
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