【摘要】本實用新型公開了一種多段調壓裝置，其包含至 少二個電磁閥，每個電磁閥上具有兩個通孔，所述兩個通孔可 選擇為相通或不通設置，其中第一通孔與一吸力機構的輸出管 路相連，第二通孔與一孔座相連通。當皮膚吸放機構的吸氣機 構的吸力大時，本實用
【摘要】 本發明公開了一種光學記錄裝置之讀取和寫入 功率控制方法和系統，用于記錄信息到一具只讀區域之光盤。 所述讀取和寫入功率控制方法包含以下步驟：根據前次功率控 制所輸出的前次功率控制信號，決定一特定電平；依據所述特 定電平，設定一目前功率控制的一功率控制信號的一預定電 平，藉以迅速地輸出一適當功率以控制一光學讀寫頭。據此， 所述讀取及寫入功率控制信號之電平變換期間可以被縮短，甚 而被消除，藉以避免輸出不穩定的讀寫功率予所述光學讀寫 頭。 【專利類型】發明申請 【申請人】聯發科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省新竹市新竹科學工業園區新竹市篤行一路一號 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610131759.9 【申請日】2006-10-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1945704A 【公開公告日】2007-04-11 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN1945704B 【授權公告日】2010-09-08 【授權公告年份】2010.0 【IPC分類號】G11B7/0045; G11B7/005; G11B7/125; G11B20/00 【發明人】吳志中; 黃奇沛; 俞銘九 【主權項內容】1、一種功率控制方法，適用于一讀寫頭自具有數個只讀區域之光盤上存取信息，所述方法包 括以下步驟： 依據一前次功率控制下產生的一前次功率控制信號，決定一特定電平；以及 基于前次功率控制信號之特定電平，設定一預設電平以觸發一目前功率控制。 【當前權利人】聯發科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市新竹科學工業園區新竹市篤行一路一號 【家族引證次數】6.0
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