【摘要】一種內嵌式測試裝置及方法與內建于晶片切割線區間之測試裝置，用以測試在晶片上至少一個集成電路以及轉換晶片中多個集成電路之輸出為數字碼。內嵌式測試裝置包括數字器以及測試平臺，而內建于晶片切割線區間之測試裝置則包括數字器。數字器設置于晶片
【摘要】 本發明提供一種根據空間屏蔽調整目標像素的目標灰階的方法。該目標像素為N個鄰近像素所包圍；每一個該鄰近像素各自具有鄰近灰階。該方法首先將該目標灰階乘以銳化參數以產生放大的目標灰階，并且將N個該鄰近灰階各自乘以鄰近參數以產生N個調整后的鄰近灰階。接著，該方法將該放大的目標灰階與該N個調整后的鄰近灰階相加，以產生第一灰階和。該方法將該第一灰階和乘以乘法參數，以產生第二灰階和。最后，該方法將該第二灰階和除以除法參數，藉此為目標像素該產生調整后的灰階。。數據由整理 【專利類型】發明申請 【申請人】帆宣系統科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣臺北市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610071934.X 【申請日】2006-04-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101052095A 【公開公告日】2007-10-10 【公開公告年份】2007 【發明人】高旭彬; 蔡璨鴻; 單益嘉; 許凱翔; 高旭佳 【主權項內容】1.一種根據空間屏蔽調整目標像素的目標灰階的方法，該目標像素為N 個鄰近像素所包圍，N為正整數，每一個該鄰近像素各自具有鄰近灰階，該 方法包含下列步驟： (a)將該目標灰階乘以銳化參數，以產生放大的目標灰階，將N個該鄰 近灰階各自乘以鄰近參數，以產生N個調整后的鄰近灰階，其中該銳化參數 與該鄰近參數是與該空間屏蔽有關； (b)將該放大的目標灰階與該N個調整后的鄰近灰階相加，以產生第一 灰階和； (c)將該第一灰階和乘以乘法參數，以產生第二灰階和，其中該乘法參 數是與該空間屏蔽有關；以及 (d)將該第二灰階和除以除法參數，藉此為目標像素產生調整后的灰階， 其中該除法參數是與該空間屏蔽有關。 ： 【當前權利人】帆宣系統科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣臺北市
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