【摘要】本發明提出一種無線通信元件，包括有一頻率合 成器、IQ調制器、第一及第二可編程分頻器、相位檢測器、 可變控制振蕩器以及混頻器。頻率合成器可產生一參考信號。 第一可編程分頻器將上述參考信號的頻率除以一除數N，以產 生一調制信號。第二可
【摘要】 本發明提供一種流體噴射裝置及其制造方法，此流體噴射裝置包括：基底，具有第一表面，且上述基底的中具有流體通道；導電高分子層，形成于上述基底的上述第一表面上；金屬結構層，形成于上述導電高分子層上，上述金屬結構層與上述基底的上述第一表面間形成流體腔，且上述導電高分子層與該金屬結構層的中具有噴孔，與上述流體腔連通。上述的流體噴射裝置可還包括抗化性金屬薄膜，形成于上述金屬結構層上，且上述抗化性金屬薄膜從上述金屬結構層上表面延伸至上述噴孔內。。微信 【專利類型】發明申請 【申請人】明基電通股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省桃園縣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610080118.5 【申請日】2006-04-28 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101062494A 【公開公告日】2007-10-31 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】B05B1/24; B41J2/16; B41J2/14; C25D3/00; B05B1/00 【發明人】洪益智; 陳葦霖; 莊文賓 【主權項內容】1.一種流體噴射裝置的制造方法，包括下列步驟： 提供基底，且所述基底具有第一表面與第二表面； 在所述基底的所述第一表面上形成圖案化犧牲層； 在所述基底的所述第一表面上形成導電高分子層，且所述導電高分子層 覆蓋所述圖案化犧牲層； 在所述導電高分子層上形成圖案化光致抗蝕劑層； 在暴露的所述導電高分子層上形成金屬結構層，且所述金屬結構層與所 述圖案化光致抗蝕劑層相鄰； 移除所述圖案化光致抗蝕劑層與所述圖案化光致抗蝕劑層下方的導電 高分子層，以形成噴孔。。： 【當前權利人】明基電通股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省桃園縣 【引證次數】2.0 【被引證次數】5 【他引次數】2.0 【被他引次數】5.0 【家族引證次數】2.0 【家族被引證次數】5
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