【摘要】本實用新型涉及一種連續式的真空制程設備。此類設備可廣泛應用于任何需要于真空下進行加工及或檢測工作的制程,例如光學或電子產品的蒸鍍或濺鍍制程。一種無時間延遲的連續式真空制程設備,其具有前后真空過渡室、前后初級真空室、真空制程室、工件傳
【專利類型】外觀設計 【申請人】昆盈企業股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】臺灣省臺北縣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200630001693.2 【申請日】2006-02-08 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3652036D 【公開公告日】2007-05-30 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3652036D 【授權公告日】2007-05-30 【授權公告年份】2007.0 【發明人】李祖楠; 賴怡君; 鄭雅芳 【主權項內容】無 【當前權利人】昆盈企業股份有限公司 【當前專利權人地址】臺灣省臺北縣
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