【摘要】一種動(dòng)壓軸承制作方法，由一軸承及一加工工具配合應(yīng)用，該軸承具有一軸孔及一內(nèi)壁，而于該加工工具的外壁上形成有可形成動(dòng)壓溝紋的凸出圖案。該動(dòng)壓軸承制作方法包括以下步驟：將該加工工具穿設(shè)并定位于該軸承的該軸孔中；使該加工工具與該軸承的該內(nèi)
【摘要】 判斷半導(dǎo)體曝光條件的方法，包括提供一具有多個(gè)相異線條間距的圖形區(qū)的光掩模，依據(jù)多組設(shè)定值相異的工藝參數(shù)經(jīng)由該光掩模對(duì)多個(gè)晶片曝光，量測(cè)各該晶片上的各個(gè)圖形區(qū)的一臨界尺寸，并建立該多個(gè)圖形區(qū)的線條間距與相對(duì)應(yīng)的多個(gè)臨界尺寸的對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)庫(kù)；經(jīng)由該光掩模對(duì)一預(yù)測(cè)晶片曝光，以同樣方法建立該預(yù)測(cè)晶片上的一組對(duì)應(yīng)關(guān)系；由所建立的該對(duì)應(yīng)關(guān)系數(shù)據(jù)庫(kù)中，找出一組最近似于該預(yù)測(cè)晶片所建立的該組對(duì)應(yīng)關(guān)系，并依此判斷當(dāng)該預(yù)測(cè)晶片進(jìn)行曝光時(shí)所使用的該多個(gè)工藝參數(shù)的設(shè)定值。 【專(zhuān)利類(lèi)型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】聯(lián)華電子股份有限公司 【申請(qǐng)人類(lèi)型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】中國(guó)臺(tái)灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū) 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】臺(tái)灣省 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610071587.0 【申請(qǐng)日】2006-03-30 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN101046636A 【公開(kāi)公告日】2007-10-03 【公開(kāi)公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100535759C 【授權(quán)公告日】2009-09-02 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類(lèi)號(hào)】G03F7/20; G03F7/00; H01L21/027; H01L21/02 【發(fā)明人】周文湛; 于勁; 施繼雄 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種判斷半導(dǎo)體曝光條件的方法，包括： (a)提供一具有多個(gè)圖形區(qū)的光掩模，各該圖形區(qū)具有多個(gè)線條，該 多個(gè)圖形區(qū)的線條間距相異； (b)依據(jù)多組設(shè)定值相異的工藝參數(shù)經(jīng)由該光掩模對(duì)多個(gè)晶片曝光， 以于各該晶片上形成多個(gè)線條間距相異的圖形區(qū)； (c)量測(cè)各該晶片上的各個(gè)圖形區(qū)的一臨界尺寸； (d)建立該多個(gè)晶片上的多個(gè)圖形區(qū)的線條間距與相對(duì)應(yīng)的多個(gè)臨 界尺寸的多組對(duì)應(yīng)關(guān)系，各該晶片上的多個(gè)圖形區(qū)的線條間距與相對(duì)應(yīng)的 多個(gè)臨界尺寸是建立有一組對(duì)應(yīng)關(guān)系； (e)經(jīng)由該光掩模對(duì)一預(yù)測(cè)晶片曝光，以于該預(yù)測(cè)晶片上形成多個(gè)線 條間距相異的圖形區(qū)； (f)量測(cè)該預(yù)測(cè)晶片上的各該圖形區(qū)的一臨界尺寸； (g)建立該預(yù)測(cè)晶片上的該多個(gè)圖形區(qū)的線條間距與相對(duì)應(yīng)的多個(gè) 臨界尺寸的一組對(duì)應(yīng)關(guān)系； (h)由步驟(d)所建立的該多組對(duì)應(yīng)關(guān)系中，找出一組對(duì)應(yīng)關(guān)系，其是 最近似于步驟(g)所建立的該組對(duì)應(yīng)關(guān)系；以及 (i)依據(jù)步驟(h)所找出的該組對(duì)應(yīng)關(guān)系，判斷當(dāng)該預(yù)測(cè)晶片進(jìn)行曝光 時(shí)所使用的該多個(gè)工藝參數(shù)的設(shè)定值。 【當(dāng)前權(quán)利人】聯(lián)華電子股份有限公司 【當(dāng)前專(zhuān)利權(quán)人地址】中國(guó)臺(tái)灣新竹科學(xué)工業(yè)園區(qū) 【被引證次數(shù)】5 【被他引次數(shù)】5.0 【家族引證次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】5
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