【摘要】一種投影顯示器的光路調整機構，接收由一個分光鏡投射出來的色光并調整該色光的光路，包含：一個與分光鏡間隔設置的光閥、一個位于分光鏡與光閥間的調整單元，以及一個將光閥安裝在該調整單元上的固定單元，該調整單元包括一個固定座，以及一個帶動光
【摘要】 一種半導體工藝，先提供一基底，接著于此基底 上形成一層待蝕刻層。然后，于待蝕刻層上形成一層圖案化的 光致抗蝕劑層。接下來，使用一種蝕刻氣體來進行蝕刻工藝， 以蝕刻待蝕刻層而產生一圖案化層。同時因此蝕刻工藝而產生 出覆蓋于圖案化的光致抗蝕劑層上與基底上方的凝結蝕刻氣 體。之后，進行熱處理工藝，以去除凝結的蝕刻氣體。接著， 進行離子注入工藝，以于基底中形成摻雜區，并于離子注入工 藝后，去除圖案化的光致抗蝕劑層。 【專利類型】發明申請 【申請人】聯華電子股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹科學工業園區 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610110721.3 【申請日】2006-08-07 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1967789A 【公開公告日】2007-05-23 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】H01L21/335; H01L21/02 【發明人】黃國書; 曾盈銘; 余佳勛; 林志宏 【主權項內容】1、一種半導體工藝，包括： 提供基底； 于該基底上形成待蝕刻層； 于該待蝕刻層上形成圖案化的光致抗蝕劑層； 以該圖案化的光致抗蝕劑層為掩模，使用蝕刻氣體進行蝕刻工藝，以蝕 刻該待蝕刻層而產生圖案化層； 進行熱處理工藝，以去除在該蝕刻工藝后凝結覆蓋于該圖案化的光致抗 蝕劑層上與該基底上方的該蝕刻氣體； 進行離子注入工藝，以于該基底中形成摻雜區；以及 于該離子注入工藝后去除該圖案化的光致抗蝕劑層。 【當前權利人】聯華電子股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹科學工業園區 【被引證次數】3 【被他引次數】3.0 【家族引證次數】8.0 【家族被引證次數】4
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