【摘要】一種柵氧化層制備方法首先形成至少兩條溝槽于基板之中，這兩條溝槽之間形成主動區域。之后，形成介電區塊于該溝槽之中，該介電區塊之上表面不對齊該基板之上表面。接著，進行摻雜工藝，將含氮摻質植入該主動區域之基板中，該主動區域中心處之基板內的
【摘要】 一種調焦曲線的決定方法。首先，計算一實際后焦距離。接著，提供一對照表，此對照表包括多個不同的后焦距離及多個不同的調焦曲線，每一后焦距離對應于一調焦曲線。然后，根據此實際后焦距離及此對照表，以決定此實際后焦距離所對應的此調焦曲線。 【專利類型】發明申請 【申請人】明基電通股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣桃園縣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610071482.5 【申請日】2006-03-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101042521A 【公開公告日】2007-09-26 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】G03B21/53; G03B21/00 【發明人】陳榮耀; 李俊成 【主權項內容】1.一種調焦曲線的決定方法，包括： 計算一實際后焦距離； 提供一對照表，該對照表包括多個不同的后焦距離及多個不同的調焦 曲線，每一后焦距離對應于一調焦曲線；以及 根據該實際后焦距離及該對照表，以決定該實際后焦距離所對應的該 調焦曲線。 【當前權利人】明基電通股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣桃園縣 【被引證次數】5 【被他引次數】5.0 【家族被引證次數】5
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