【摘要】本發明提供一種注入劑量控制系統與方法、用離 子束進行晶圓注入的方法，所述注入劑量控制系統，包括第一 接口、第二接口、控制器。該第一接口，其是用以接收一注入 離子束的掃描位置數據。該第二接口，其是用以接收該注入離 子束的流量數據，其是
【專利類型】外觀設計 【申請人】北京時代石油制品有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】101107北京市通州區潞城鎮甘棠工業區 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】通州區 【申請號】CN200630158306.6 【申請日】2006-05-24 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3623206D 【公開公告日】2007-03-21 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3623206D 【授權公告日】2007-03-21 【授權公告年份】2007.0 【發明人】黃開毅 【主權項內容】無 【當前權利人】北京時代石油制品有限公司 【當前專利權人地址】北京市通州區潞城鎮甘棠工業區 【專利權人類型】有限責任公司(自然人投資或控股) 【統一社會信用代碼】911101128024152915
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