【摘要】本發(fā)明公開了一種帶有鑲嵌物的卡及其制造方法，上述方法包括如下步驟：1)提供卡的層壓芯層，在所述芯層的雙面涂布層壓油；2)根據(jù)鑲嵌物的尺寸在涂布有層壓油的芯層上加工孔；3)將所述鑲嵌物鑲嵌在芯層上的所述孔中；4)在所述芯層和鑲嵌物的至
【摘要】 本發(fā)明公開了一種自動曝光調節(jié)方法與裝置，所 述方法包括以下步驟：(1)判斷當前圖像是否處于鎖定狀態(tài)；(2) 在當前圖像未處于鎖定狀態(tài)的情況下，根據(jù)當前圖像平均亮度 (Ymean)與目標圖像亮度(Ytarget)的差值確定曝光時間和/或數(shù) 字增益的調整步長(Step)；以及(3)根據(jù)所述調整步長(Step)調整 曝光時間和/或數(shù)字增益。本發(fā)明采用可變調整步長，有效解決 了因采用固定調整步長而造成的曝光調節(jié)速度慢或易出現(xiàn)無 法鎖定情況的問題。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】北京中星微電子有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】100083北京市海淀區(qū)學院路35號世寧大廈15層 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610150127.7 【申請日】2006-10-27 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1932630A 【公開公告日】2007-03-21 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100458540C 【授權公告日】2009-02-04 【授權公告年份】2009.0 【發(fā)明人】李昕彤; 孫余順 【主權項內容】1、一種自動曝光調節(jié)方法，包括以下步驟： (1)判斷當前圖像是否處于鎖定狀態(tài)； (2)在當前圖像未處于鎖定狀態(tài)的情況下，根據(jù)當前圖像平均 亮度(Ymean)與目標圖像亮度(Ytarget)的差值確定曝光時間和/ 或數(shù)字增益的調整步長(Step)；以及 (3)根據(jù)所述調整步長(Step)調整曝光時間和/或數(shù)字增益。 【當前權利人】北京中星微電子有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區(qū)學院路35號世寧大廈15層 【專利權人類型】有限責任公司(外國法人獨資) 【統(tǒng)一社會信用代碼】911101087002349407 【被引證次數(shù)】33 【被他引次數(shù)】33.0 【家族被引證次數(shù)】33
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