【摘要】本發明涉及光通訊系統技術領域，特別是一種適用于臺階結構的自對準摻雜工藝。包含以下步驟：(1)生成第一掩模層；(2)刻蝕形成臺階結構；(3)生成第二掩模層；(4)各向異性刻蝕第二掩模層；(5)形成摻雜區。在所述自對準工藝中，由于刻蝕所
【摘要】 一種鎂合金液態金屬控制裝置，屬于鎂及鎂合金 的壓鑄技術領域。該裝置包括：快速熔爐(10)、攪拌測量裝置 (20)；快速熔爐(10)與攪拌測量裝置(20)之間以帶絕緣保溫層的 虹吸管(43)相連；快速熔爐包括：坩堝、感應線圈、推拉門、 保護氣體供應管、可移動的基座放在坩堝底部。坯錠支撐框架 把熔融的坯錠限制在熔爐中央。攪拌測量裝置包括：溫度控制 筒、單螺旋、變速傳動裝置、控制螺旋器往復運動的直線平移 傳動裝置、進口閥門、出口閥門、容量控制活塞、保護氣體供 應管、傳輸管。優點在于；熔體輸出設備體積小、操作方法靈 活，成本較低、維護簡易。快速熔化、液態金屬停留時間短有 效解決了鎂合金熔體的防護和準確的定量輸送。 【專利類型】發明申請 【申請人】瑞瑪泰(北京)科技有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】100085北京市海淀區上地信息路26號中關村創業大廈405室 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610089643.3 【申請日】2006-07-07 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1887481A 【公開公告日】2007-01-03 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100355519C 【授權公告日】2007-12-19 【授權公告年份】2007.0 【IPC分類號】B22D17/32 【發明人】樊中云; 徐俊 【主權項內容】1、一種鎂合金液態金屬控制裝置，其特征在于：該裝置包括：快速 熔爐(10)、攪拌測量裝置(20)；快速熔爐(10)與攪拌測量裝置(20) 之間以帶絕緣保溫層的虹吸管(43)相連；快速熔爐包括：坩堝(11)、 感應線圈(12)、推拉門(13)、保護氣體供應管(14)、可移動的基座(15)、 坯錠支撐框架(16)、可移動的基座(15)放在坩堝底部、感應線圈(12) 以內；坯錠支撐框架(16)放置在坩鍋(11)的中央，下面與基座(15) 相接，把熔融的坯錠(17)限制在熔爐的中央位置；在坯錠支撐框架中 放置過濾器(18)來收集坯錠引入的大塊夾雜；攪拌測量裝置包括： 溫度控制筒(21)、單螺旋(22)、變速傳動裝置(23)、控制螺旋器 往復運動的直線平移傳動裝置(24)、進口閥門(40)、出口閥門(50)、 容量控制活塞(27)、保護氣體供應管(28)、傳輸管(29)；溫度控 制筒(21)裝有加熱元件(31)和冷卻通道(32)；單螺旋(22)安裝 于溫度控制筒(21)內，其頂端裝有變速傳動裝置(23)驅動單螺旋旋 轉，在溫度控制筒(21)內對液態金屬給予強烈的分散和置換攪拌作用， 單螺旋(22)的外形為等距柱螺旋，以液壓傳動或者電力傳動，單螺旋 (22)的軸向移動靠一個緊鄰變速傳動裝置(23)的直線平移傳動裝置 (24)來實現，以液壓傳動或者氣壓傳動，傳輸管(29)固定在溫度控 制筒(21)的底部，把處理過的液態金屬傳輸到壓鑄機的壓射室里。 【當前權利人】瑞瑪泰(北京)科技有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區上地信息路26號中關村創業大廈405室 【專利權人類型】有限責任公司(自然人投資或控股) 【被引證次數】10 【被他引次數】10.0 【家族引證次數】6.0 【家族被引證次數】10
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