【摘要】本實用新型屬于一種多向雙軸強磁底座，本實用 新型在臺座上的磁套為活動磁套，活動磁套位于上端與臺座固 定為一體的兩前后支撐板之間，活動磁套通過后頂軸和前頂軸 與前后支撐板軸接，永磁柱塊位于后頂軸和前頂軸之間的活動 磁套內(nèi)，臺座上設有固
【摘要】 一種利用原子力顯微鏡的套刻對準方法及裝置， 其方法包括以下步驟：(1)在第一層圖形寫入的同時寫入套刻對 準標記；(2)在第二層圖形刻寫之前對其工作區(qū)域掃描成像，根 據(jù)掃描成像的結果對第二層圖形結構的坐標進行修正；(3)以修 正后的圖形坐標刻寫第二層圖形結構；(4)多層圖形結構的坐標 均依據(jù)原子力顯微鏡掃描結果進行修正，從而完成套刻加工。 應用上述套刻對準方法的裝置，包括以壓電陶瓷閉環(huán)定位系統(tǒng) 作為掃描器的原子力顯微鏡、光學觀測鏡、機械調(diào)節(jié)平臺與電 壓開關電路[8]，電壓開關電路[8]控制加工電壓。本發(fā)明利用原 子力顯微鏡自身的成像功能與壓電陶瓷閉環(huán)定位系統(tǒng)[5]進行 測量與定位，在不引進復雜的高精度光學對準設備的條件下可 實現(xiàn)高精度的套刻加工。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】中國科學院電工研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100080北京市海淀區(qū)中關村北二條6號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區(qū)縣】海淀區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200610164888.8 【申請日】2006-12-07 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1971845A 【公開公告日】2007-05-30 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100541708C 【授權公告日】2009-09-16 【授權公告年份】2009.0 【發(fā)明人】李曉娜; 韓立 【主權項內(nèi)容】1、一種利用原子力顯微鏡的套刻對準方法，其特征在于包含以下幾個步驟： (1)利用原子力顯微鏡刻蝕技術在制作第一層圖形的同時制作套刻對準標記，計算機記 錄對準標記相對于該工作區(qū)域的坐標值； (2)將探針移出工作區(qū)域進行制備第二層圖形的準備，再通過原子力顯微鏡自身配備的 低分辨率光學觀測系統(tǒng)與低精度機械調(diào)節(jié)系統(tǒng)將探針移至工作區(qū)域內(nèi)； (3)利用原子力顯微鏡的成像功能，在制備第二層圖形之前，對此時的工作區(qū)域進行掃 描，計算機記錄對準標記相對于此時的工作區(qū)域的坐標值； (4)通過計算機對原子力顯微鏡測量得到的對準標記坐標值與原記錄的對準標記坐標值 之間的差值進行計算，得到位移、角度的補償值； (5)利用該補償值修正第二層圖形的坐標，通過壓電陶瓷閉環(huán)定位系統(tǒng)，按照修正后的 坐標，精確控制第二層圖形的刻寫； (6)對于多于兩層的圖形結構的制造，利用所述套刻對準標記，逐層按照步驟(2)(3)(4)(5) 進行刻寫，實現(xiàn)多層圖形結構的高精度套刻。 ： 【當前權利人】中國科學院電工研究所 【當前專利權人地址】北京市海淀區(qū)中關村北二條6號 【統(tǒng)一社會信用代碼】121000004000124147 【被引證次數(shù)】TRUE 【家族被引證次數(shù)】TRUE
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