【摘要】本發明一種提高氧化鋁砷化鎵分布布拉格反射鏡界面質量的方法，其特征在于，包括如下步驟：(A)在半絕緣砷化鎵(100)襯底上，使用分子束外延的方法外延生長200nm的砷化鎵緩沖層；(B)在砷化鎵緩沖層上生長7個周期的砷化鋁砷化鎵分布布拉
【摘要】 1.右視圖與左視圖相同；省略右視圖。 2.省略其他視圖。 3.灰色部分A為透明部分。 【專利類型】外觀設計 【申請人】上海順利實業有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】200070上海市閘北區共和新路666號中土大廈20樓 【申請人地區】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區縣】靜安區 【申請號】CN200630039488.5 【申請日】2006-08-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3642494D 【公開公告日】2007-05-09 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN3642494D 【授權公告日】2007-05-09 【授權公告年份】2007.0 【發明人】張帆 【主權項內容】無 【當前權利人】上海順利實業有限公司 【當前專利權人地址】上海市閘北區共和新路666號中土大廈20樓 【專利權人類型】有限責任公司 【統一社會信用代碼】91310118607867970K
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