【摘要】本發(fā)明涉及一種場發(fā)射陰極裝置的制造方法。該場發(fā)射陰極裝置的制造方法包括以下步驟：提供一個(gè)襯底；在襯底上依次形成一層?xùn)艠O絕緣介質(zhì)層，一層?xùn)艠O金屬層和一層光刻膠層；微影光刻膠層形成一預(yù)定之圖案；分別蝕刻柵極金屬層和柵極絕緣介質(zhì)層以形成柵
【摘要】 本外觀設(shè)計(jì)的后視圖和主視圖相同，左視圖和右視圖相同，仰視 圖和俯視圖相同，因此省略左視圖、仰視圖和后視圖。 【專利類型】外觀設(shè)計(jì) 【申請人】上海全禾鑫實(shí)業(yè)有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】201105上海市閔行區(qū)華翔路268號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】上海市 【申請人區(qū)縣】閔行區(qū) 【申請?zhí)枴緾N200630034339.X 【申請日】2006-03-13 【申請年份】2006 【公開公告號】CN3605958D 【公開公告日】2007-01-31 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN3605958D 【授權(quán)公告日】2007-01-31 【授權(quán)公告年份】2007.0 【發(fā)明人】焦新 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】無 【當(dāng)前權(quán)利人】上海全禾鑫實(shí)業(yè)有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】上海市閔行區(qū)華翔路268號 【專利權(quán)人類型】有限責(zé)任公司(自然人投資或控股)
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