【摘要】一種單粒子束刻蝕薄膜的單納米孔制作方法，屬于納米技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將固體絕緣薄膜置于帶有粒子檢測裝置的一個可水平旋轉(zhuǎn)的載體上，用單粒子束刻蝕該薄膜，單粒子束入射角大于等于9.6°、小于等于90°，并且單粒子束在該薄膜底部、頂部、或二者
【摘要】 一種裝在回轉(zhuǎn)主軸上通過砂帶等涂附磨具對工 件進行磨削或拋光的磨盤，由法蘭、底盤、盤蓋、砂帶 及壓緊裝置組成，其特征是磨盤體內(nèi)有若干扇形空 腔，磨盤端面上有分布的小孔或槽與該空腔相通，砂 帶位于磨盤帶孔端面上。由于磨盤工作時空腔內(nèi)產(chǎn) 生負壓，從而將砂帶“吸”緊在磨盤端面上，能有效地 消除砂帶與磨盤端面的間隙，使其工作平穩(wěn)，振動小， 且更換砂帶容易，工件加工質(zhì)量高，是一種理想的磨 削加工裝置。。 （macrodatas.cn） 【專利類型】實用新型 【申請人】席光表 【申請人類型】個人 【申請人地址】410075湖南省長沙鐵道學(xué)院 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】長沙市 【申請人區(qū)縣】雨花區(qū) 【申請?zhí)枴緾N91212297.8 【申請日】1991-03-08 【申請年份】1991 【公開公告號】CN2085284U 【公開公告日】1991-09-25 【公開公告年份】1991 【授權(quán)公告號】CN2085284U 【授權(quán)公告日】1991-09-25 【授權(quán)公告年份】1991.0 【IPC分類號】B24D9/10; B24D9/00 【發(fā)明人】席光表 【主權(quán)項內(nèi)容】1、一種裝在回轉(zhuǎn)主軸上通過砂帶等涂附磨具對工件進行磨削或拋光的磨盤，其特征在于磨盤體由底盤(2)和盤蓋(3)組成，磨盤體內(nèi)有若干相互分隔的扇形空腔(7)，磨盤端面分布有小孔或窄槽與空腔(7)相通，磨盤體由螺釘與銷固定在法蘭(1)上，砂帶(4)由壓緊裝置(5)壓緊于磨盤帶孔端面上，并由空腔(7)內(nèi)負壓而緊貼在磨盤端面上。 【當前權(quán)利人】席光表 【當前專利權(quán)人地址】湖南省長沙鐵道學(xué)院 【被引證次數(shù)】6.0 【被他引次數(shù)】6.0 【家族被引證次數(shù)】6.0
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