【摘要】一種組合式端子板，該端子板設有殼體(1)，殼體 設有兩個容納室(11)，并加設有蓋體(2)，殼體兩側邊 設有接線孔(12)，蓋體設有兩插孔(21)，容納室內裝 有由基板(3)、彈簧(4)及活動端子(5)所組成的端子 結構體，基板及活
【摘要】 多弧-磁控濺射多功能鍍膜設備，屬于一種鍍覆 設備。該設備在多弧離子鍍設備中通過法蘭密封在 真空室的頂部或底部的軸線上裝有磁控濺射靶(或加 熱器)，每個弧源處裝有擋板(或拿掉擋板)。因此它 不僅能進行高溫鍍膜，又可在輝光放電下進行低熔點 的金屬與非金屬及塑料的高速低溫鍍膜，還可同時開 動弧源及磁控濺射靶進行鍍不同材質、不同結構的多 層膜或合金膜，大大拓寬了多弧離子鍍設備的使用范 圍，增加了使用功能，節約了開支。 更多數據：搜索馬克數據網來源：www.macrodatas.cn 【專利類型】實用新型 【申請人】航空航天工業部第五研究院五一一研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100029北京市785信箱 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN90226142.8 【申請日】1990-12-25 【申請年份】1990 【公開公告號】CN2086749U 【公開公告日】1991-10-16 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN2086749U 【授權公告日】1991-10-16 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】C23C14/35 【發明人】張寶復; 王福柱; 張琦; 張云漢 【主權項內容】來自馬-克-數-據-官網 。1、一種多弧-磁控濺射多功能鍍膜設備，主要由接真空機組的法蘭盤(1)，用于安裝被鍍工件(2)的旋轉工件架(3)、真空室(8)，裝在真空室壁上的多弧蒸發源(10)，帶動旋轉工件架(3)的旋轉傳動輪(11)，鍍膜用的充氣孔(12)等組成，其特征在于： a.在真空室(8)的軸線上裝有磁空濺射靶(7)，該靶通過法蘭盤(5)固定在真空室(8)的頂部或底部，用密封圈(4)密封，由D～1200V直流電源(6)驅動磁空靶(7)； b.在每個弧源(10)處裝有擋板(9)。 【當前權利人】航空航天工業部第五研究院五一一研究所 【當前專利權人地址】北京市785信箱 【被引證次數】9.0 【被他引次數】9.0 【家族被引證次數】9.0
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