【摘要】本發明給出在氧化氣氛爐中生長高抗輻照氟化 鋇閃爍晶體的新技術。本發明的核心是防止和消除 在氧化氣氛下可能出現的氧化污染和水解。主要技 術有：制備氧離子高度凈化的高純BaF2原料；防止 水解和氧化作用的各項技術；如何使用生長氧化物單
【摘要】 本實用新型有關一種便攜式射頻和低頻磁脈沖 可交替作用的保健器。它包括一個射頻發生器和一 個低頻磁脈沖發生器(磁脈沖的寬度可調)，由一個可 調電子開關控制，使其交替作用，并可由使用者自己 調節兩者的時間分配，該裝置的原理是通過改變生物 組織或細胞的電磁環境來影響其生命進程，可用于無 損傷機體康復，修復受傷害的組織，維持機體機能。 【專利類型】實用新型 【申請人】王曉慶 【申請人類型】個人 【申請人地址】100872北京市中國人民大學林園十樓44號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN89216452.2 【申請日】1989-09-09 【申請年份】1989 【公開公告號】CN2086152U 【公開公告日】1991-10-09 【公開公告年份】1991 【授權公告號】CN2086152U 【授權公告日】1991-10-09 【授權公告年份】1991.0 【IPC分類號】A61N1/40; A61N2/04; A61N2/00 【發明人】王曉慶 【主權項內容】1、一種射頻及交變磁場治療、保建裝置，包括射頻發射驅動電路(102)，高頻振蕩線圈(103)，低頻脈沖電路(104)，低頻線圈105； 其特征在于： (a)帶有一個可調時間開關(101)，該開關同時控制射頻發射驅動電路，低頻脈沖電路，從而使得射頻和交變磁脈沖交替作用， (b)所說的高頻線圈(103)走行于機盒的內側邊緣。 【當前權利人】王曉慶 【當前專利權人地址】北京市中國人民大學林園十樓44號 【引證次數】1.0 【他引次數】1.0 【家族引證次數】1.0
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