【摘要】一種井口溢流收集器，屬于機械技術領域，采用罐體和阻尼器構成，罐體的底部有收集口，對應的頂部有輸出口，罐體的側壁下部有吸出口，罐體的側壁上部有放空口，阻尼器為管狀體，壁上有漏孔，阻尼器的上、下端口分別與罐體的輸出口和收集口連接。工作時
【摘要】 本發明涉及一光阻層涂布在陣列基板上，利用光罩移轉檢測線路的引線的圖案后，接著再一次曝光將陣列基板外圍光阻層去除，可有效解決金屬殘余造成的檢測信號短路問題，并且不會增加光罩的曝光次數。。 【專利類型】發明申請 【申請人】中華映管股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣桃園縣八德市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610084865.6 【申請日】2006-05-23 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101080143A 【公開公告日】2007-11-28 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100515160C 【授權公告日】2009-07-15 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】H05K3/06; H05K3/26 【發明人】陳紫瑜; 黃金海 【主權項內容】1.一種去除基板外圍金屬殘余的方法，其特征在于，包括步驟： 沉積一導電層在一基板上，該導電層在該基板上設有數個檢測線 路延伸至該基板外緣； 涂布一光阻層在該基板上； 對該光阻層進行曝光將該檢測線路上的光阻去除，再對該基板進 行外圍曝光，最后產生一光阻圖案； 對該光阻圖案進行顯影，并以該光阻圖案作為蝕刻液的屏障，進 行金屬蝕刻，將該導電層不需要的區域去除；及 將該光阻圖案剝離，進行后續清洗。 【當前權利人】中華映管股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣桃園縣八德市 【被引證次數】3 【被他引次數】3.0 【家族引證次數】5.0 【家族被引證次數】3
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