【摘要】本實用新型可單擊或連發(fā)的打釘槍扳機，其包括 有一本體、一抵壓件與一調整件；所述本體的一端設有一滑槽， 所述滑槽內是穿設有一導桿，而所述導桿可于所述滑槽內滑 移，所述本體靠近所述滑槽處還設有一第一定位槽與一第二定 位槽；所述抵壓件的一
【摘要】 本發(fā)明公開了一種流體噴射裝置的制造方法。首先，在基底上形成第一感光型高分子層，以具有流體腔圖案的光掩模為掩模，并以第一波長范圍的光線對第一感光型高分子層進行曝光。其后，造曝光后的第一感光型高分子層上形成第二感光型高分子層，以具有噴孔圖案的光掩模為掩模，并以第二波長范圍的光線對第二感光型高分子層進行曝光，其中第一波長范圍和第二波長范圍大體上不互相干擾。接著，對第一感光型高分子層和第二感光型高分子層進行顯影，以同時定義出流體腔和位于第二感光型高分子層中的噴孔。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】明基電通股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣桃園縣 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610094106.8 【申請日】2006-06-22 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101091937A 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】B05B1/00; B41J2/14; B41J2/16 【發(fā)明人】莊文賓; 周忠誠 【主權項內容】1、一種流體噴射裝置的制造方法，包括： 提供基底； 在所述基底上形成圖形化的高分子犧牲層； 在所述基底上形成高分子結構層，且所述高分子結構層覆蓋所述高分子 犧牲層； 圖形化所述高分子結構層，以形成噴孔，并露出所述高分子犧牲層部分 表面；及 移除所述圖形化的高分子犧牲層，以形成流體腔，其中所述圖形化的高 分子犧牲層和所述高分子結構層大體上不具有工藝兼容性問題。。 【當前權利人】明基電通股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣桃園縣 【被引證次數(shù)】4 【被他引次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】4
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