【摘要】本發(fā)明是提供一種光刻圖形的形成方法，包含： 形成一第一材料層于一基底上，上述第一材料層實質(zhì)上不含 硅；形成一圖形化的抗蝕劑層于上述第一材料層上，上述圖形 化的抗蝕劑層包含至少一抗蝕劑開口于其中；形成含硅的一第 二材料層于上述圖形化的
【摘要】 本實用新型公開了一種散熱裝置的固定機構(gòu)，其設(shè)于該散熱裝置的兩側(cè)，以將該散熱裝置夾裝在一電子裝置的機殼上，該固定機構(gòu)包括：翼片，其設(shè)于該散熱裝置的兩側(cè)，于該翼片上設(shè)有一穿孔；底座，其相對應該翼片而設(shè)于該機殼上，于該底座上設(shè)有一鎖孔，且該鎖孔相對于該穿孔；扣件，樞設(shè)于該底座上；以及鎖件，其設(shè)于該扣件上，并相對應該穿孔及鎖孔，使該扣件樞轉(zhuǎn)壓靠在該翼片上，并使該鎖件穿過該翼片的穿孔以鎖入該底座的鎖孔，從而以將該散熱裝置鎖扣固定在該機殼上。 【專利類型】實用新型 【申請人】英業(yè)達股份有限公司 【申請人類型】企業(yè) 【申請人地址】中國臺灣臺北市士林區(qū)后港街66號 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200620164629.0 【申請日】2006-12-15 【申請年份】2006 【公開公告號】CN200983729Y 【公開公告日】2007-11-28 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號】CN200983729Y 【授權(quán)公告日】2007-11-28 【授權(quán)公告年份】2007.0 【IPC分類號】H05K7/12; H05K7/20; H01L23/40; G06F1/20; H01L23/34 【發(fā)明人】陳榮隆 【主權(quán)項內(nèi)容】權(quán)利要求書 1.一種散熱裝置的固定機構(gòu)，其設(shè)于該散熱裝置的兩側(cè)，以將該 散熱裝置夾裝在一電子裝置的機殼上，其特征在于，該固定機構(gòu)包括： 翼片，其設(shè)于該散熱裝置的兩側(cè)，于該翼片上設(shè)有一穿孔； 底座，其相對應該翼片而設(shè)于該機殼上，于該底座上設(shè)有一鎖孔， 且該鎖孔相對于該穿孔； 扣件，其樞設(shè)于該底座上；以及 鎖件，其設(shè)于該扣件上，并相對應該穿孔及鎖孔，使該扣件樞轉(zhuǎn)壓 靠在該翼片上，并使該鎖件穿過該翼片的穿孔以鎖入該底座的鎖孔， 從而以將該散熱裝置鎖扣固定在該機殼上。 【當前權(quán)利人】英業(yè)達股份有限公司 【當前專利權(quán)人地址】中國臺灣臺北市士林區(qū)后港街66號 【引證次數(shù)】2.0 【被引證次數(shù)】1 【他引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】1.0 【家族引證次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】1
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