【摘要】本實(shí)用新型提供一種卷標(biāo)打印機(jī)的活動(dòng)式打印裝置，其包括：控制面板模塊，具有兩個(gè)活動(dòng)樞鈕分別位于控制面板模塊兩側(cè)，兩個(gè)活動(dòng)樞鈕分別連接卷標(biāo)打印機(jī)本體兩側(cè)，控制面板模塊以兩個(gè)活動(dòng)樞鈕為中心轉(zhuǎn)動(dòng)；打印模塊，固定于控制面板模塊內(nèi)側(cè)垂直面，其具
【摘要】 本發(fā)明提供一種高介電常數(shù)介電層的形成方法、半導(dǎo)體裝置及其制造方法。所述高介電常數(shù)介電層的形成方法，包括：于襯底上形成一第一介電層；于第一介電層上形成一金屬材料層；于金屬材料層上形成一第二介電層；以及于一氧化環(huán)境中對(duì)襯底實(shí)施一退火處理，并持續(xù)退火處理直到第一介電層、金屬材料層及第二介電層結(jié)合形成均質(zhì)的該高介電常數(shù)介電層。通過(guò)本發(fā)明可以提高金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管的性能。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】中國(guó)臺(tái)灣新竹市 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】臺(tái)灣省 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610164028.4 【申請(qǐng)日】2006-12-05 【申請(qǐng)年份】2006 【公開公告號(hào)】CN1983524A 【公開公告日】2007-06-20 【公開公告年份】2007 【授權(quán)公告號(hào)】CN100517601C 【授權(quán)公告日】2009-07-22 【授權(quán)公告年份】2009.0 【IPC分類號(hào)】H01L21/31; H01L21/28; H01L21/336; H01L29/51; H01L29/78 【發(fā)明人】張世勛; 顏豐裕; 林秉順; 金鷹; 陶宏遠(yuǎn) 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1.一種高介電常數(shù)介電層的形成方法，包括： 于襯底上形成一第一介電層； 于所述第一介電層上形成一金屬材料層； 于所述金屬材料層上形成一第二介電層；以及 于一氧化環(huán)境中對(duì)所述襯底實(shí)施一退火處理，并持續(xù)所述退火處理直到 所述第一介電層、所述金屬材料層及所述第二介電層結(jié)合形成均質(zhì)的所述高 介電常數(shù)介電層。 【當(dāng)前權(quán)利人】臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國(guó)臺(tái)灣新竹市 【被引證次數(shù)】4 【被自引次數(shù)】2.0 【被他引次數(shù)】2.0 【家族被引證次數(shù)】4
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