【摘要】本實用新型公開了一種安全帽紫外線臭氧殺菌清凈機，主要結構包含座體、底座、風扇電路板、光觸媒濾網及發光體等構成，底座及側體結合組成座體，座體內部裝設光觸媒紫外線臭氧殺菌燈，光觸媒紫外線殺菌燈下方放置風扇，通過座體直接進行頂蓋結合，位于
【摘要】 本發明涉及一種多重微控器的芯片模擬系統及其中所使用的集成式開發環境，可將多重微控器中至少兩個微控器的狀態，顯示在計算機屏幕畫面上，便利程序設計員追蹤偵錯。此外，并可由程序設計員選定所欲追蹤的微控器，以跳過與其無關的斷點，或在逐步追蹤偵錯時跳過與其無關的步驟。 【專利類型】發明申請 【申請人】應廣科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣新竹市 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610077878.0 【申請日】2006-05-10 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101071395A 【公開公告日】2007-11-14 【公開公告年份】2007 【發明人】凌全伯 【主權項內容】1.一種供芯片模擬系統使用的集成式開發環境，其特征在于，該 芯片模擬系統供追蹤多個微控器在執行程序時的狀態，其中每一微控 器具有對應的程序計數器，該環境執行以下步驟： 在個人計算機屏幕上產生一畫面，畫面中顯示兩個以上的微控器 的程序計數器內容數值。 【當前權利人】應廣科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣新竹市 【被引證次數】3 【被他引次數】3.0 【家族被引證次數】3
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