【摘要】一種微影光罩及其制造方法與使用上述兩者制 造的半導體元件包括一個位于獨立或半獨立區域的設計特征， 以及復數個垂直于設計特征的平行線型輔助特征。這些平行線 型輔助特征包括位于設計特征兩邊的兩組平行輔助特征。第一 組平行輔助特征位于設計
【摘要】 一種研磨墊及其制造方法，包含一研磨墊本體，以及位于研磨墊本體內部的至少一長條形輔助壓縮體，長條形輔助壓縮體的壓縮性大于研磨墊本體的壓縮性。 【專利類型】發明申請 【申請人】智勝科技股份有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】中國臺灣臺中市西屯區工業區16路7號2樓 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200610082010.X 【申請日】2006-05-16 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101073880A 【公開公告日】2007-11-21 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN101073880B 【授權公告日】2010-08-11 【授權公告年份】2010.0 【發明人】張永忠; 張勝裕; 施文昌 【主權項內容】1、一種研磨墊，包含： 一研磨墊本體；以及 至少一長條形輔助壓縮體，位于研磨墊本體的內部，其中長條形輔助 壓縮體的壓縮性大于研磨墊本體的壓縮性。 【當前權利人】智勝科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣臺中市西屯區工業區16路7號2樓 【被引證次數】4 【被他引次數】4.0 【家族被引證次數】4
未經允許不得轉載：http://m.mhvdw.cn/1776666373.html
喜歡就贊一下
