【專利類型】外觀設計【申請人】張丁文【申請人類型】個人【申請人地址】中國臺灣臺北【申請人地區(qū)】中國【申請人城市】臺灣省【申請?zhí)枴緾N200630019932.7【申請日】2006-06-07【申請年份】2006【公開公告號】CN363700
【摘要】 本發(fā)明為一種反射式投光裝置，其包含一具有反光特性的導光罩以及至少一指向性光源，所述的導光罩具有一類菲涅爾(Fresnel)結構的反射面，所述的類菲涅爾結構是采用菲涅爾透鏡原理，將幾何反射曲面轉換為等效反射面的結構，可為平面、曲面其中的一或其組合，將所述的具有類菲涅爾結構的反射面設置在所述的導光罩的底部，所述的光源設置在所述的導光罩的側壁，調(diào)整光源的發(fā)光方向與所述的類菲涅爾結構具有一定配合角度，可將反射光導向一定角度射出所述的導光罩；從而達到產(chǎn)生高效率與高準直性平行光線的目的。 【專利類型】發(fā)明申請 【申請人】財團法人工業(yè)技術研究院; 東亞電機股份有限公司 【申請人類型】企業(yè),科研單位 【申請人地址】中國臺灣 【申請人地區(qū)】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請?zhí)枴緾N200610145146.0 【申請日】2006-11-15 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101063518A 【公開公告日】2007-10-31 【公開公告年份】2007 【IPC分類號】F21V7/10; F21V8/00; F21Y101/02; F21Y115/10 【發(fā)明人】林建憲; 王健全; 賴杰隆; 許修真; 孫翊庭 【主權項內(nèi)容】1、一種反射式投光裝置，其特征在于：其包含： 一導光罩，其具有一底部以及至少一出光口，所述的底部是供設置至少一類 菲涅爾結構的反射面，在所述的出光口的外圍形成所述的導光罩的側壁； 至少一指向光源，是設置在前述導光罩的側壁。其出光方向與前述所述的反 射面的類菲涅爾結構具有一定的配合角度，將反射光導向一定角度射出所述的導 光罩。 ： 【當前權利人】財團法人工業(yè)技術研究院; 東亞電機股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣; 【引證次數(shù)】4.0 【被引證次數(shù)】6 【他引次數(shù)】4.0 【被他引次數(shù)】6.0 【家族引證次數(shù)】4.0 【家族被引證次數(shù)】6
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