【摘要】本發明涉及一種光學補償膜制法，主要是借由在基材上先后積層一光學補償層與一光阻滯材料所構成。借由本光學補償膜的光學補償層材料以紫外線照射以產生交鏈化學反應的過程中，使其暴露于空氣環境(含氧量不低于1％體積百分比濃度)并提供重量百分比濃
【摘要】 一種曝光機的對位光源，是在對位區相對曝光框 的對位位置下方，設置一形成背光模式的對位光源；對位光源 以陣列式的發光二極管組成；對位光源以陣列式的冷陰極管組 成。本實用新型具有令待曝光物件對位孔影像清晰的功效。。 【專利類型】實用新型 【申請人】張鴻明 【申請人類型】個人 【申請人地址】中國臺灣 【申請人地區】中國 【申請人城市】臺灣省 【申請號】CN200620025457.9 【申請日】2006-03-03 【申請年份】2006 【公開公告號】CN2893747Y 【公開公告日】2007-04-25 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN2893747Y 【授權公告日】2007-04-25 【授權公告年份】2007.0 【發明人】張鴻明 【主權項內容】1、一種曝光機的對位光源，其特征在于，是在對位區相對曝光框的 對位位置下方，設置一形成背光模式的對位光源。 【當前權利人】川寶科技股份有限公司 【當前專利權人地址】中國臺灣桃園市蘆竹區長興路三段277巷33號 【被引證次數】1 【家族被引證次數】1
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