【摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種流體動(dòng)壓軸承，內(nèi)部?jī)?chǔ)存有一潤(rùn)滑流體，并包括有一可供一心軸樞設(shè)的環(huán)壁，該環(huán)壁的內(nèi)周面上形成有二相間隔的溝槽壁部，及 一介于該二溝槽壁部之間的容置壁部，每一溝槽壁部具有多數(shù)條于該環(huán)壁的內(nèi)周面凹陷形成且交錯(cuò)相連通的溝槽
【摘要】 一種曝光機(jī)機(jī)差的測(cè)量方法，此方法通過(guò)將一對(duì)預(yù)先制作的匹配光掩模及匹配晶片分別配置在兩個(gè)機(jī)器中進(jìn)行曝光，并將兩個(gè)機(jī)器曝光所得的曝光圖像相減，而消除該匹配光掩模及匹配晶片本身所造成的誤差，從而獲得兩機(jī)器間更準(zhǔn)確的機(jī)差值，達(dá)到有效掌控機(jī)器間變化的目的。 【專利類型】發(fā)明申請(qǐng) 【申請(qǐng)人】力晶半導(dǎo)體股份有限公司 【申請(qǐng)人類型】企業(yè) 【申請(qǐng)人地址】中國(guó)臺(tái)灣新竹市 【申請(qǐng)人地區(qū)】中國(guó) 【申請(qǐng)人城市】臺(tái)灣省 【申請(qǐng)?zhí)枴緾N200610005895.3 【申請(qǐng)日】2006-01-19 【申請(qǐng)年份】2006 【公開(kāi)公告號(hào)】CN101004554A 【公開(kāi)公告日】2007-07-25 【公開(kāi)公告年份】2007 【IPC分類號(hào)】G03F7/20 【發(fā)明人】林柏青 【主權(quán)項(xiàng)內(nèi)容】1、一種曝光機(jī)機(jī)差的測(cè)量方法，適于測(cè)量待測(cè)機(jī)器的機(jī)差，該測(cè)量方 法包括下列步驟： 利用匹配光掩模及匹配晶片在對(duì)照機(jī)器曝光，獲得第一圖像； 利用該匹配光掩模及該匹配晶片在該待測(cè)機(jī)器曝光，獲得第二圖像； 將該第二圖像與該第一圖像相減，獲得第三圖像；以及 移除該第三圖像的線性誤差，獲得該機(jī)差。 【當(dāng)前權(quán)利人】力晶半導(dǎo)體股份有限公司 【當(dāng)前專利權(quán)人地址】中國(guó)臺(tái)灣新竹市 【被引證次數(shù)】8 【被他引次數(shù)】8.0 【家族被引證次數(shù)】8
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