【摘要】本發明為一種變焦鏡頭，從物側開始依序配置包含有一負屈折第1群及正屈折第2群，該第1群的屈折力是1f1，第2群的屈折力是1f2，兩群間的距離變大時，其光學系的焦點距離是fW，當其群間距離變小時，其光學系的焦點距離是fT，本發明滿足0.
【摘要】 本發明公開了一種控制離子注入的方法和裝置，該裝置包括產生束流裝置、晶片、法拉第杯、晶片驅動器、控制器、真空系統裝置、真空腔體，其中產生束流裝置產生一個直線束流；該束流垂直注入到晶片當中；法拉第杯檢測束流值，輸出一個反映束流大小的信號給控制器；晶片驅動器與控制器進行通訊，通過接受控制器傳送的參數命令驅動晶片進行上下掃描；束流在傳輸過程中處于一個密封的真空腔體內，其真空環境則依靠真空系統裝置來維持；控制器控制注入劑量。本方法用直接檢測束流變化的方式為控制離子注入補償提供依據，而不是去檢測真空壓力的變化，從而達到控制離子注入均勻性和劑量準確性的目的。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京中科信電子裝備有限公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】100036北京市海淀區復興路乙20號匯通商務樓北門44號辦公樓2層東段 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610000823.X 【申請日】2006-01-13 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101000870A 【公開公告日】2007-07-18 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100456427C 【授權公告日】2009-01-28 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】H01L21/265; H01J37/317; H01L21/02 【發明人】謝均宇 【主權項內容】1.一種控制離子注入的裝置，其特征在于：包括產生束流裝置、 晶片、法拉第杯、晶片驅動器、控制器、真空系統裝置、真空腔體， 其中產生束流裝置產生一個直線束流；該束流經過掃描、聚焦、角度 修正、能量加速處理后，垂直注入到晶片當中；法拉第杯檢測束流值， 輸出一個反映束流大小的信號給控制器；晶片驅動器與控制器進行通 訊，通過接受控制器傳送的參數命令驅動晶片進行上下掃描；束流在 傳輸過程中處于一個密封的真空腔體內，其真空環境則依靠真空系統 裝置來維持并且真空系統裝置測量到的各個部分的真空值都發送給 控制器；控制器控制注入劑量和判斷注入過程中的波動真空值是否超 出范圍，決定是否繼續進行注入。 【當前權利人】北京中科信電子裝備有限公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區復興路乙20號匯通商務樓北門44號辦公樓2層東段 【專利權人類型】有限責任公司(法人獨資) 【統一社會信用代碼】911101127513429762 【被引證次數】16 【被自引次數】4.0 【被他引次數】12.0 【家族引證次數】2.0 【家族被引證次數】16
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