【摘要】本發明公開了呋喃妥因的緩釋制劑及其制備方法。本發明以呋喃妥因為原料，按照一定的比例，加入緩釋骨架材料，與藥物原料制成固體分散劑，使藥物在給藥后藥物能按要求緩慢持續釋放以維持有效血濃，從而達到長效作用。本發明產品具有減少給藥次數，提高
【摘要】 一種砷化鎵/氧化鋁型可調諧濾波器，其特征在于，該結構包括：一襯底，該襯底為砷化鎵襯底；一緩沖層，該緩沖層制作在襯底上；一下分布布拉格反射鏡，該下布拉格反射鏡制作在緩沖層上，是濾波器的下反射鏡；一空氣腔，該空氣腔制作在下布拉格反射鏡上，用于可調諧；一上分布布拉格反射鏡，該上分布布拉格反射鏡制作在空氣腔上，是濾波器的上反射鏡；一p電極，該p電極制作在上分布布拉格反射鏡的上面；一n電極，該電極制作在n型砷化鎵襯底的下面。 【專利類型】發明申請 【申請人】中國科學院半導體研究所 【申請人類型】科研單位 【申請人地址】100083北京市海淀區清華東路甲35號 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】海淀區 【申請號】CN200610089349.2 【申請日】2006-06-21 【申請年份】2006 【公開公告號】CN101093266A 【公開公告日】2007-12-26 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100445787C 【授權公告日】2008-12-24 【授權公告年份】2008.0 【IPC分類號】G02B6/34; G02F1/21; G02F1/225; G02F1/01 【發明人】吳旭明; 王小東; 譚滿清 【主權項內容】1.一種砷化鎵/氧化鋁型可調諧濾波器，其特征在于， 該結構包括： 一襯底，該襯底為砷化鎵襯底； 一緩沖層，該緩沖層制作在襯底上； 一下分布布拉格反射鏡，該下布拉格反射鏡制作在緩沖層 上，是濾波器的下反射鏡； 一空氣腔，該空氣腔制作在下布拉格反射鏡上，用于可調 諧； 一上分布布拉格反射鏡，該上分布布拉格反射鏡制作在空 氣腔上，是濾波器的上反射鏡； 一p電極，該p電極制作在上分布布拉格反射鏡的上面； 一n電極，該電極制作在n型砷化鎵襯底的下面。 【當前權利人】中國科學院半導體研究所 【當前專利權人地址】北京市海淀區清華東路甲35號 【統一社會信用代碼】12100000400012385U 【被引證次數】2 【被他引次數】2.0 【家族引證次數】4.0 【家族被引證次數】3
未經允許不得轉載：http://m.mhvdw.cn/1776105391.html
喜歡就贊一下
