【摘要】一種半導體激光散斑發生裝置，設有半導體激光器(5)，其輸出端設有光束角度變換器(4)，光束角度變換器為球面透鏡和柱面透鏡的組合，其后端面為磨砂平面(8)，該平面上設有一過軸心的磨砂凹槽(9)，半導體激光器光輸出端對準凹槽(9)，光束
【摘要】 本發明涉及井下液位監控系統及其監控方法，該 系統包括：雷達液位儀、壓差液位儀和聲納裝置，雷達液位儀、 壓差液位儀、聲納裝置的液位測量數據傳輸到位于錄井房內的 工控計算機內，由工控計算機控制灌漿泵工作，完成井下液位 的測量、控制；利用本發明的井下液位監控系統和方法，可以 及時、有效監控鉆井作業各個過程中泥漿液位，并及時、準確 控制泥漿液位保持在適當、安全位置。 【專利類型】發明申請 【申請人】北京石大德美科技有限責任公司 【申請人類型】企業 【申請人地址】100083北京市朝陽區望京南湖西園111樓堂館所1701室 【申請人地區】中國 【申請人城市】北京市 【申請人區縣】朝陽區 【申請號】CN200610112449.2 【申請日】2006-08-18 【申請年份】2006 【公開公告號】CN1908369A 【公開公告日】2007-02-07 【公開公告年份】2007 【授權公告號】CN100513736C 【授權公告日】2009-07-15 【授權公告年份】2009.0 【IPC分類號】E21B47/04; E21B21/08 【發明人】余代美 【主權項內容】1.一種井下液位監控系統，包括：雷達液位儀、壓差液位儀和聲納裝置，雷達液位 儀被安裝在井口防溢管上；防溢管下端安裝封井器；封井器下端安裝四通內外閥門；四通 內外閥門下端安裝套管頭閥門；套管頭閥門下端連接井筒套管；壓差液位儀和聲納裝置被 安裝在井口四通內外閥門之間(或套管頭外側閥門上)；泥漿泵，通過泥漿上水管線抽取 泥漿罐內泥漿，并通過直立管灌輸到鉆桿頂端；設置井口地面的一套灌漿泵，灌漿泵從通 過管線與泥漿罐上水管線相連，用于必要時從泥漿罐中抽汲泥漿直接注入到防溢管內，用 來保持井筒內泥漿液位高度，灌漿泵由工控計算機控制，可調節灌輸泥漿流量；雷達液位 儀、壓差液位儀、聲納裝置的液位測量數據均通過信號電纜傳輸到位于錄井房內的工控計 算機內；外夾式流量計，安放在直立管上用于測量灌輸到鉆桿內的泥漿流量。 【當前權利人】北京德美高科科技有限責任公司 【當前專利權人地址】北京市海淀區永豐產業基地永捷北路3號標準廠房北5層501-18房間 【被引證次數】20 【被他引次數】20.0 【家族引證次數】4.0 【家族被引證次數】20
未經允許不得轉載：http://m.mhvdw.cn/1776074974.html
喜歡就贊一下
